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六、 P-MOSFET在使用中的静电保护措施 1.静电击穿的形式 1)电压型:栅极的薄氧化层发生击穿形成针孔,使栅极和源极短路,或者使栅极和漏极短路; 2)功率型:金属化薄膜铝条被熔断,造成栅极开路或者是源极开路。 2.防止静电击穿注意事项 1)器件存放应抗静电; 2)取用时,工作人员必须通过腕带良好接地,且应拿在管壳部分而不是引线部分; 3)接入时,工作台要接地,焊接烙铁要接地或断电焊接; 4)测试器件时,仪器和工作台都要良好接地。 第七节 绝缘栅双极型晶体管(IGBT) 绝缘栅双极型晶体管,简称IGBT( Insulated Gate Bipolar Transistor)。是由P-MOSFET与双极晶体管混合组成的电压控制的双极型自关断器件。它将P-MOSFET和GTR的优点集于一身,既具有P-MOSFET输入阻抗高、开关速度快、工作频率高、热稳定性好、无二次击穿和驱动电路简单的长处,又有GTR通态压降低、耐压高和承受电流大的优点。IGBT的发展方向有两个:一是追求更低损耗和更高速度;二是追求更大容量。 一、 IGBT的结构和工作原理 1、IGBT的基本结构 IGBT是在P-MOSFET基础上发展起来的集成新型器件,其结构是以GTR为主导元件,P-MOSFET为驱动元件的达林顿结构的复合器件。其结构、电路符号、等效电路如下图示。外部有三个电极(G栅极、C集电极、E发射极)。 2、IGBT的工作原理 当IGBT栅极加上正电压时,MOSFET内形成沟道,使IGBT导通;当IGBT栅极加上负电压时,MOSFET内沟道消失,IGBT关断。 当UCE<0时,J3的PN结处于反偏,IGBT呈反向阻断状态。 当UCE>0时,分两种情况: (1)若栅极电压UGE<UT(开启电压),沟道不能形成,IGBT呈正向阻断状态。 (2)若栅极电压UGEUT ,栅极下的沟道形成,从而使IGBT导通。此时,空穴从P+区注入到N基区进行电导调制,减少N基区电阻RN的值,使得IGBT也具有很低的通态压降。 二、 IGBT的主要特性 1、静态特性 IGBT的静态特性主要有输出(伏安)特性及转移特性,如下图所示。 (1)IGBT的输出(伏安)特性 以栅射电压UGE为参变量,集电极电流IC和集射电压UCE间的关系曲线。IGBT的输出特性分为饱和区、放大区和击穿区三个部分。在正向导通的大部分区域内,IC与UCE呈线性关系,此时IGBT工作于放大区内。对应着输出特性的弯曲部分,IC与UCE呈非线性关系,此时IGBT工作于饱和区。开关器件IGBT常工作于饱和状态和阻断状态,若IGBT工作于放大状态将会增大IGBT的损耗。 IGBT的输出(伏安)特性和转移特性 (2)IGBT的转移特性 是指输出集电极电流IC与栅射控制电压UGE之间的关系曲线。当栅射电压UGE<UT时,IGBT处于关断状态。当UGE>UT时,IGBT导通。IGBT导通后的大部分集电极电流范围内,IC与UGE呈线性关系。 2、IGBT动态特性 IGBT的动态特性包括开通和关断过程两方面,如下图示。 IGBT的开通过程是从正向阻断状态到正向导通的过程。在开通过程中,大部分时间是作为MOSFET来运行的。td为开通延迟时间,tr为电流上升时间,开通时间为:ton=td+tr。 而集射电压UCE下降分为tfu1和tfu2两段。 tfu1段为MOSFET单独工作时的电压下降时间; tfu2为MOSFET和PNP管两个器件同时工作,PNP管从放大进入饱和时的电压下降时间。IGBT的关断过程是从正向导通状态转换到正向阻断状态的过程,关断时间为:toff=ts+tf 式中ts——关断储存时间; tf——电流下降时间。又可分为tf1和tf2两段,tf1对应MOSFET的关断过程; tf2对应于PNP晶体管的关断过程。 IGBT动态特性 三、 IGBT的锁定效应 1、IGBT的锁定效应 IGBT为四层结构,存在一个寄生晶闸管,在NPN晶体管的基极与发射极之间存在一个体区短路电阻, P型体区的横向空穴流过此电阻会产生一定压降,对J3结相当于一个正偏置电压。在规定的集电极电流范围内,这个正偏置电压不会使NPN晶体管导通;当IC大到一定程度时,该偏置电压使NPN晶体管开通,进而使NPN和PNP晶体管处于饱和状态。于是栅极失去控制作用,这就是锁定效应。 (1)集射极额定电压UCES 栅射极短路时的IGBT最大耐压值。 (2)栅射极额定电压UGES UGES是栅极的电压控制信号额定值。只有栅射极电压小于额定电压值,才能使IGBT导通而不致损坏。 (3)栅射极开启电压UT 使IGBT导通所需的最小栅-射极电压。 (4)集电极额定电流IC 在额定的测试温度
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