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孙 莉 等 ：He 辐照对非晶碳氢薄膜表面硬度 的影响 文章编号：1001—9731(2013)增刊 (I)-0067—04 He+辐照对非晶碳氢薄膜表面硬度的影响 孙 莉 ，范红玉 ，李梦轲 ，刘东平 ，杨德 明 ，杨 杞 ，牛金海。 (1．辽宁师范大学 物理与电子技术学院，辽宁 大连 116029； 2．大连民族学院 物理与材料工程学院，辽宁 大连 116600) 摘 要 ： 在 室温下，利用等离子体增强的化学气相沉 的H、D、T等反应 ，生成碳氢、碳氘薄膜过程中的物理 积法(PECVD)在硅衬底上制备 了非晶碳氢薄膜。采 和化学变化 [4]。在 He轰击碳氢薄膜 的过程 中，H 用 1OOkeV，剂量分别为 1．0×10 、5．0×10 、5．0× 原子可以在薄膜上建立活性位 ，He与薄膜表面相互 10¨和 1．0×10 ions／cm 的 He离子 (He )对非 晶 作用时会在薄膜表面上生成 1层在结构上不同于体相 碳氢薄膜进行辐 照 实验。通过基于原子力显微镜 的表面层。本文以 100keV 的He辐照碳氢薄膜 ，考 (AFM)的纳米压痕和纳米划痕技术 ，对 He辐照前后 察 了He辐照剂量 的变化对碳氢薄膜表面硬度 的影 碳氢薄膜的表面硬度进行分析。结果表 明，经 He辐 响。采用基于 AFM 的纳米压痕及划痕技术分析了薄 照后碳氢薄膜的表面硬度 明显增加，并且随着He辐 膜的表面硬度的变化 ，通过傅里叶变换红外光谱和拉 照剂量增加，碳氢薄膜的表面硬度呈逐渐增加的趋势。 曼光谱对辐照前后碳氢薄膜硬度变化的原 因进行了分 傅里叶变换红外光谱 (FT—IR)和拉曼光谱分析表 明， 析。 He。。辐照会导致碳氢薄膜 中sp。c键含量明显增加，而 2 实 验 sp。C键及 H原子的含量明显降低 ，这可能是引起碳 氢 薄膜硬度 变化的主要原 因。 在室温下，以(111)单 晶硅为衬底 ，利用等离子体 关键词 ： 非晶碳氢薄膜 ；辐照 ；硬度 ；纳米压痕 增强的化学气相沉积法 (PECVD)制备了碳氢薄膜 ，实 中图分类号 ： TB321 文献标识码 ：A 验装置如图 1所示 。实验以CH 为碳源，放电电压的 DOI：10．3969／j．issn．1O01—9731．2O13．增刊 (I)．014 峰峰值为 12kV，频率为 5kHz，放 电间隙为 5mm，沉积 压力为 300Pa，沉积时间为 120min，制备的碳氢薄膜厚 1 引 言 度约为 1．4fire。 非晶碳氢薄膜 (a—c：Hfilm)是一类具有亚稳态 非晶结构的含氢类金刚石 (DLC)薄膜材料，具有很多 优越性 ，如极好 的力学性能、化学稳定性、光学透过性 、 高热导率 、极低 的真空摩擦系数等。因而在激光惯性 约束聚变 (ICF)靶物理研究、医学 以及光学等很多领域 有重要应用。在这些应用中，碳氢薄膜面临着高温 、高 能粒子轰击以及离子辐照等恶劣的工作环境 ，因此 ，研 究非晶碳膜的辐照损伤特性具有重要的意义[=l]。 非晶碳氢薄膜中四面体碳 (sp。c)、石墨碳 (spc) 图1 实验装置 图 和氢 (H)3种主要成分 的含量对碳氢薄膜 的性质影响 Fig1Theinstallationdrawing 很大 。王天民等研究了用高能 H。。束辐照类金刚石碳 将制备好的碳氢薄膜样品在室温下用 He束进行 膜 [1j。研究表明，高能 H 束辐照主要表现在对弱键 辐照实验l6。实验 中采用 的He束能量为 lOOkeV，入 合的刻蚀或破坏作用上 。这种作用使膜层在某种程度 射角为 9O。，辐照剂量分别为 1．0×10 、5．0×10 、5．0 上保持甚至