TC4合金表面磁控溅射W-Al-N复合膜的摩擦磨损和高温抗氧化性能.pdfVIP

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TC4合金表面磁控溅射W-Al-N复合膜的摩擦磨损和高温抗氧化性能

j隧 vol-49No_4Apr.’f)t6 蜊, TC4合金表面磁控溅射 W-Al-N复合膜的 摩擦磨损和高温抗氧化性能 韩士萍,马 辉 p (六安职业技术学院汽车与机电工程学院,安徽 六安 237158) [摘 要] 目前,在WN 中加入Al制备多元复合膜的研究国内外报道较少。通过射频磁控溅射法,以不同Al靶 r 功率在 Si(100)和 TC4合金上制备了不同A1含量的W.Al—N复合膜。采用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳 米压痕仪 (CSM)、摩擦磨损试验机、高温氧化试验研究了w.Al—N复合膜的微结构、力学性能、摩擦磨损性能及高 温抗氧化性能。结果表明:随着Al含量的增加,W.A1.N复合膜 的择优取向发生变化,(111)和 (220)衍射峰逐渐 f 消失,复合膜主要呈(200)择优取向生长;复合膜的硬度先增加后减小,当Al含量为32.40%(原子分数,下同)时 P 硬度达到最大值37GPa,此时表征复合膜抵抗塑性变形能力的变量 /E 也达到最大值0.308;室温下,随Al含 量的增加,w—A1.N复合膜的摩擦系数与单层WN薄膜的相比变化不大,磨损率先降低后增大,在硬度最大处得到 磨损率最低值9×10I9mm /N;w。 Al N复合膜的摩擦 系数在 200℃时降低,随后随温度的升高先增大后减 e 小;A1的加入提高了复合膜的高温抗氧化性能,起始氧化温度 由WN单层膜的400℃提高到复合膜的800oC。 l [关键词] 磁控溅射;W.A1一N复合膜;TC4合金;微结构;高温摩擦磨损;高温抗氧化 [中图分类号]TG174.444 [文献标识码]A [文章编号]1001—1560(2016)04—0014—05 o i O 前 言 结果表明,薄膜在加入一定量Al、si等元素后具有比单 随着科学技术和工业的发展,特别是高速切削、干 层膜更好的耐磨性、更高的硬度和热稳定性。 切削和微润滑切削工艺的出现,对保护性硬质涂层的 相对于传统的二元系薄膜来说,在 WN薄膜中加 gsi制备 WSiN复合膜的研究已获得 良好的效果 ,], 要求越来越高,一些传统涂层已满足不了这些特殊要 但对WN中加Al制备三元及多元复合膜的研究国内 求。具有高硬度、低摩擦系数和高热稳定性的纳米结 构超硬薄膜成为研究热点H卫J。WN薄膜因具有高熔 外少有报道。 s 本工作采用射频非平衡磁控溅射法,通过固定钨 点、高硬度、化学性质稳定而受到广泛关注 J。此外, P 靶功率,调节Al靶溅射功率,制备了一系列w.A1.N复 w元素因其在高温下氧化生成WO,电离势较大,容易 合膜,研究了复合膜的微结构、力学性能、高温摩擦磨 剪切断裂,具有 自润滑性能,被称作马格内力(Magn61i)

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