掺氮TiO_（2-x）N_x薄膜托槽的制备及其性能研究.pdfVIP

奎 箜! ! = 蔓堕堑 塑 鱼垦基 堂 窒 掺氮 TiO2--xN 薄膜托槽的制备及其性能研究 李 娜 ，曹宝成 。，王育华 ，刘 斌 ，张颖杰 (1．兰州大学 VI腔医学院，甘肃 兰州 730000；2．兰州大学 物理科学与技术学院，甘肃 兰州 730000) 摘 要： 利用射频磁控溅射制备 了氮掺杂TiO2一N 强。同时TiO 薄膜也是一种硬质膜，可以通过镀膜涂 薄膜托槽 ，通过 X射线衍射 (XRD)、扫描 电镜 (SEM) 层技术对材料表面性状的改变来改善材料表面性能。 等测试手段表征了托槽表面薄膜的结构、形貌，并通过 束嫘等首次尝试将纳米材料及技术用于 口腔正畸领 原子力显微镜(AFM)、多功能材料表面试验仪等研究 域 ，开发研制了纳米 TiO。涂层托槽 J。 了TiO2xN 薄膜与基底托槽 的附着力、TiOz…N 薄 本文通过采用射频磁控溅射制备了TiOz一N 薄 膜托槽的表面粗糙度以及表面摩擦系数 。结果表 明制 膜托槽 ，表征了薄膜的理化性能，并对托槽表面性能进 备的托槽表面为均一的锐钛矿相结构 TiO一N 薄 行 了研究，以期能够利用 TiO…N 薄膜来改善托槽 膜 ，晶粒粒径为 30nm，纳米 TiO～N 薄膜托槽表面 表面性能，同时又能发挥光催化抗菌性 ，进而减少托槽 致密、平整，薄膜与托槽衬底结合紧密、附着性好，托 表面菌群粘附，降低正畸并发症的发生率 。 槽表面粗糙度降低，摩擦系数变小，改善了托槽表面性 2 实 验 能，为抗茵性研究奠定 了基础。 关键词 ： 托槽 ；TiO2--xN 薄膜 ；附着力 ；表面粗糙度 ； 2．1 托槽的制备 ． 摩擦力 利用辽宁聚智科技发展有限公司生产 的JZCK一 中图分类号： 0484；R783．5 文献标识码 ：A 580高真空多功能磁控溅射设备在金属托槽上沉积 文章编号 ：1001-9731(2011)增刊V一0835-04 TiO2--xN 薄膜 。镀膜 的制备采用射频溅射法，靶为成 都超纯公司生产 的纯度为 99．99 氧化钛 陶瓷靶 1 引 言 (75mm×5ram)，托槽采用杭州三比医疗器械有限公 错牙合畸形是常见的 口腔疾病 ，固定矫治技术是 司生产的0．022标准型直丝弓托槽 。 目前最主要 的矫治方法之一 ，正畸托槽是固定矫治技 沉积前托槽用 40g／LNaOH、25g／LNaCO3、50g／ 术的主要设备 。然而，在矫治错牙合畸形改善患者面 LNa3PO4·12H2O和 7．5g／LNa2SO3配制而成 的混 部 的同时，正畸治疗 中的并发症也相继暴露 出来 。有 合液恒温在 9O℃清洗 25min，观察表面无水珠，然后把 研究报道 ，戴有正畸托槽的患者牙釉质脱矿的患病率 托槽放入盛有丙酮溶液的烧杯 ，超声清洗 20min，清洗 高达 49．6 [1]。戴有托槽 的患者不易维护 口腔卫生， 干净 的托槽浸泡在装有丙酮的烧杯 内备用。 同时生理 自洁能力下降，导致局部菌斑堆积显著增 溅射前 Ar气预溅射 10min，去除靶表面污染物。 多，托槽下方及周围牙釉质 出现脱矿甚至龋坏进而影 实验 中本底真空为 1．0×10_Pa，工作气压为 1．OPa， 响到牙周健康。有研究结果表 明，变形链球菌对托槽 通人氩气和氮气两种气体 ，质量流量 比为 30：1，射频 吸附量的差异与托槽本身的材质、表面处理工艺、面 溅射功率为 300W ，衬底 温度 为 300℃。将制得 的 积、外形的设计等综合因素有关[2]。因此，托槽 的性能