添加tin对mos 基复合薄膜结构和性能的影响 - 摩擦学学报.pdf

第 ３１卷　第 １期 摩 擦 学 学 报 Ｖｏｌ３１　Ｎｏ１ ２０１１年 １月 Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｊａｎ，２０１１ 添加ＴｉＮ对ＭｏＳ 基复合薄膜结构和性能的影响 ２ １，２ ２ １ １ １，２ 李倩倩 ，尹桂林 ，郑慈航 ，余　震 ，何丹农 （１．上海交通大学 材料科学与工程学院，上海　２００２４０； ２．纳米技术及应用国家工程研究中心，上海　２００２４１） 摘　要：通过磁控反应溅射方法制备ＭｏＳ－ＴｉＮ复合薄膜，研究添加少量ＴｉＮ对 ＭｏＳ基薄膜结构和性能的影响． ｘ ２ 薄膜的结构和性能通过Ｘ射线光电子能谱仪（ＸＰＳ）、Ｘ射线衍射仪（ＸＲＤ）、场发射扫描电子显微镜（ＦＥＳＥＭ）及 ＵＭＴ－２多功能微摩擦磨损试验机等进行了表征．结果表明：与纯ＭｏＳ薄膜相比，少量ＴｉＮ的添加使得ＭｏＳ－ＴｉＮ ２ ｘ 复合薄膜（００２）晶面择优取向且结构致密．与纯ＭｏＳ和ＭｏＳ－Ｔｉ薄膜相比，ＭｏＳ－ＴｉＮ复合薄膜在潮湿大气条件 ２ ２ ｘ 下具有更优异的摩擦磨损性能，更低的摩擦系数． 关键词：ＭｏＳ；ＴｉＮ；磁控反应溅射；摩擦磨损性能 ２ 中图分类号：ＴＱ１７４；ＴＨ１１７．３ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００４－０５９５（２０１１）０１－００４０－０５ ＥｆｆｅｃｔｏｆＴｉＮＡｄｄｉｔｉｏｎｏｎｔｈｅＭｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄＰｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ｏｆＭｏＳ －ｂａｓｅｄＣｏｍｐｏｓｉｔｅＦｉｌｍｓ ２ １，２ ２ １ １ １，２ ＬＩＱｉａｎ－ｑｉａｎ ，ＹＩＮＧｕｉ－ｌｉｎ，ＺＨＥＮＧＣｉ－ｈａｎｇ，ＹＵＺｈｅｎ，ＨＥＤａｎ－ｎｏｎｇ （１．ＣｏｌｌｅｇｅｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＳｈａｎｇｈａｉＪｉａｏｔｏｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｓｈａｎｇｈａｉ２００２４０，Ｃｈｉｎａ ２．ＮａｔｉｏｎａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＲｅｓｅａｒｃｈＣｅｎｔｅｒｏｆＮａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｓｈａｎｇｈａｉ２００２４１，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＭｏＳ－ＴｉＮｃｏｍｐｏｓｉｔｅｆｉｌｍｓｗｅｒｅｐｒｅｐａｒｅｄｂｙｍａｇｎｅｔｒｏｎｒｅａｃｔｉｏｎ－ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ．ＴｈｅｅｆｆｅｃｔｏｆｓｍａｌｌａｍｏｕｎｔｏｆＴｉＮ ｘ ｏｎｔｈｅｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｏｆＭｏＳ －ｂａｓｅｄｆｉｌｍｗａｓｓｔｕｄｉｅｄ．Ｔｈｅｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｆｉｌｍｓｗｅｒｅ ２ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄｂｙＸ－ｒａｙｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（ＸＰＳ），Ｘ－ｒａｙｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ（ＸＲＤ），ｆｉｅｌｄｅｍｉｓｓｉｏｎｓｃａｎｎｉ