用离子源助镀法蒸镀TiO2薄膜研究.pdfVIP

摘要 1 摘要 氧化钛(TiO )是一种具有多元晶格结构的光学镀膜材料，氧化钛在 550nm 处的 2 折射率可在 2.2～2.7 之间变化，是一种很好的高折射率材料，并且离子源助镀镀 膜可改善膜层致密性、增加折射率、反射率，提升产品性能指标，本文研究了采 用离子源助镀方法，制备 TiO2 薄膜并提升高反膜性能。 本文主要采用离子源助镀法在 GaAs 基底上制备了 TiO2 薄膜并将其应用到激 光器高反膜膜系中，对比测试了样品的附着性、反射率、折射率，分析了离子源 助镀对薄膜性能的提升及膜层 SEM 微观特性，讨论了其与离子辅助沉积成膜工艺 参数之间的相互关系。通过光学膜系的理论算法，计算膜层透射率、折射率等特 性参数；对比 TiO2 薄膜与其他常用膜料光学特性优缺点；对比使用利用离子源助 镀前后 TiO2 薄膜光学性能的提升；通过实验寻找 5 种主要影响 TiO2 薄膜特性因素 的优化蒸镀条件（5 种主要因素：基片温度、真空度、蒸镀速率、O2 流量、离子 辅助能量），研究了不同工艺参数条件下，离子源助镀光学薄膜的特性；该膜系及 工艺条件应用到激光器腔面镀膜中，并研究了激光器性能、指标、参数表征。 实验结果表明：TiO2 薄膜折射率随基片温度的增加而增加；TiO2 薄膜折射率 随蒸镀速率的增加而先增加再减小；与正常蒸镀工艺相比，基片温度相同条件下， 使用离子辅助沉积工艺，可以有效提高的 TiO2 薄膜折射率；离子束助镀工艺激光 器峰值功率离散度最小，且平均峰值功率普遍高于正常蒸镀工艺，即采用离子束 助镀可提升激光器性能指标。 关键词：氧化钛光学薄膜(TiO ) 离子辅助沉积(IAD)折射率 应力 微观结构 2 万方数据 2 用离子源助镀法蒸镀 TiO2 薄膜研究 万方数据 摘要 3 Abstract Titanium dioxide (TiO ) is a kind of optical coating materials with multivariate 2 lattice structure ，the refractive index of titanium dioxide at 550nm can be varied between 2.2 to 2.7, which is a good high refractive index material. The ion source fluxing coating can improve the film density , the refractive index ，the reflectivity and product performance . This paper