空间犚犅犁犻犆反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术-电子科学技术.PDF

第 卷 第 期 光学 精密工程 １６ １２ 　 Ｖｏｌ．１６ Ｎｏ．１２ 　 　 　　 　　　　 　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　 　　　 　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２００８ １２ Ｄｅｃ．２００８ 　 　 　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２００８１２２４９７０６ 　 空间犚犅犛犻犆反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术 ， ， １２ １ １ １ １２ 徐领娣 ，郑立功 ，范 镝 ，张学军 ，王加朋 　 （ 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所，吉林 长春 ； １． １３００３３ ２．中国科学院 研究生院，北京１０００４９） 摘要：针对空间相机用反射镜 ＲＢＳｉＣ材料由 ＳｉＳｉＣ两相结构引起的光学表面缺陷问题，提出了表面离子辅助沉积 ＼ （ ）硅膜的改性新方案以优化 光学表面反射率。对厚度为 的 改性层的主要性能研究显 ＩＡＤ ＲＢＳｉＣ １０±０．５ ｍ ＩＡＤＳｉ μ 示： 膜层为非结晶结构，能够提供较好的抛光表面，在 的热冲击下膜层稳定性良好。以 膜的抛光机 ＩＡＤＳｉ ７７ ６７３Ｋ Ｓｉ ～ 理为依据，对 ＩＡＤＳｉ改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试，给出了关键的抛光工艺参数和实验结果。通过 表面 改性及本文提出的改性层超精加工技术能够在反射镜表面得到面形精度 值优于 ／ （ ） ＩＡＤＳｉ ＲＭＳ １２０ ＝６３２．８ｎｍ λλ 且表面粗糙度 ＲＭＳ值 ０．５ｎｍ的超光滑表面；与改性前相比，反射镜改性层抛光表面在 ３６０ １１００ｎｍ波段的反射率 ＜ ～ 提高了４．５％以上。 关 键 词：反应烧结碳化硅；表面改性；离子辅助沉积硅；表面反射率 　 　 中图分类号： ； 文献标识码： ＴＨ７０３Ｏ４８４．１ Ａ