基于半导体制冷的膜蒸馏组件的设计及实验.pdfVIP

基于半导体制冷的膜蒸馏组件的设计及实验.pdf

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
2014年第2期 低 温 工 程 No.2 2014 总第 198期 CRYOGENICS Sum No.198 基于半导体制冷的膜蒸馏组件的设计及实验 席 魁 杨晓宏 田 瑞 魏文龙 ( 内蒙古工业大学能源与动力工程学院 呼和浩特 010051) ( 内蒙古可再生能源重点实验室 呼和浩特 010051) 摘 要:设计 了半导体制冷膜蒸馏组件的冷腔,设计后的冷腔不仅强化 了半导体 的散热,并使结 构趋于简化,易于实现小型化 。实验研 究了膜蒸馏组件冷腔冷却水流量及半导体输入 功率对铝冷壁 壁温的影响,实验结果表 明:设计后 的冷腔在半导体通电4分钟后铝冷壁壁面温度达到稳定,维持在 (74-0.5)oC;冷腔经3.5小时运行后基本稳定在 (54-0.8)oC;半导体的输入功率和半导体热端冷却 水流量对膜通量的影响较大,但随着半导体输入 电流的增大膜通量的增 幅在减小。说 明半导体 内部 产生的热量影响了半导体的制冷性能 ,进而影响 了膜通量 。 关键词:半导体制冷 膜蒸馏组件 膜通量 实验研究 中图分类号:TB663 文献标识码 :A 文章编号 :1000—6516(2014)02-0029—07 Design and experim entalresearch ofmembranedistillation system with semiconductorrefrigeration XiKui。 YangXiaohong TianRui ‘ WeiWenlong (CollegeofEnergyandPowerEngineering,InnerMongoliaUniversityofTechnology,Hohhot10051,China) (RenewableEnergyLaboratoryinInnerMongolia,Hohhot10051,China) Abstract:A coolcapacitycavityofmembranedistillation system with semiconductorrefrigerationwas designed,whichnotonlyintensifiedtheheattransferfrom semiconductor,butalsosimplifiedthestructureof membranemodule,and could makethemembranedistillation system achieveminiaturization.Theexperi- mentresearchedtheinfluenceofcoldcapacitycavitycoolingwaterflow ofmembranemoduleandinputpow— erofsemiconductoronthealuminum walltemperature.Theresultsshow thatthealuminum walltemperature gottostabilizeafterthesemiconductor’Spowerwasturned4minlaterandmaintainedat(7±0.5)oC.Af- ter3.5hcontinuedoperation,thealuminumwalltemperaturecanmainlysteadyat(5-40.8)oC.Theinput powerandcoolingwaterflow ofhotsideforsemiconductorhasagreatimpactonthemembraneflux.How—

文档评论(0)

ouyangxiaoxin + 关注
实名认证
文档贡献者

一线鞋类设计师,喜欢整理收集文档。

1亿VIP精品文档

相关文档