等离子体气相凝聚技术制备铜纳米团簇薄膜的沉积速率研究.pdfVIP

第50卷第5期 原 子 能 科 学 技 术 Vo1．50，NO．5 2016年5月 AtomicEnergyScienceandTechnology M ay 2O16 等离子体气相凝聚技术制备铜纳米 团簇薄膜的沉积速率研究 黄江磊 。，罗江山，李喜波 ，王雅丽 ，张建波 ，易 勇 ，唐永建 (1．西南科技大学 极端条件物质特性实验室 ，四川 绵 阳 621010； 2．中国工程物理研究院 激光聚变研究 中心 等离子体物理重点实验室 ，四川 绵 阳 621900) 摘要 ：采用等离子体气相凝聚技术并结合差分抽气技术产生铜纳米 团簇束流 ，然后在衬底上沉积铜纳米 团簇薄膜 ，研究了溅射 电流、氩气流量和结露区长度对其沉积速率的影响。利用 x射线衍射仪和透射电 子显微镜对薄膜微结构进行 了表征 。结果表 明：保持其他参数不变 的情况下，增加溅射 电流和氩气流 量 ，铜纳米 团簇薄膜的沉积速率均呈现先增大后减小的趋势，而结露区长度对沉积速率 的影响无 明显规 律 ，这主要归因于铜纳米 团簇粒子 的平均 自由程变化 。铜纳米 团簇薄膜主要 由粒径约为几纳米 的团簇 颗粒组成 ，其结晶程度较低 。 关键词：等离子体气相凝聚技术；差分抽气技术；铜纳米团簇薄膜；沉积速率 中图分类 号 ：TB383 文献标 志码 ：A 文章编 号 2O16)05—092106 doi：10．7538／yzk．2016．50．05．0921 Deposition RateofCopperNanoclusterFilm PreparedbyPlasmaGasCondensation HUANGJiang—lei～，LUOJiang—shan。，LIXi_bo ，WANG Ya—li。， ZHANGJian_bo。YIYong ，TANGYong—jian’’ (1．LaboratoryforExtremeConditionsMatterProperties， SouthwestUniversityofScienceandTechnology，Mianyang621010，China； 2．ScienceandTechnologyonPlasmaPhysicsLaboratory，ResearchCenterofLaserFusion， ChinaAcademyofEngineeringPhysics，Mianyang621900，China) Abstract：Cu nanoclusterfilmsweredepositedon suhstratesthrough Cu nanocluster beamsgeneratedbytheplasmagascondensationcombiningwith thedifferentialpure— ping．Effectsofsputteringcurrent，Arflow rateandaggregationzonelengthondeposi— tion rateoffilmswerestudied．TheirmicrostructureswerecharacterizedbyX—raydif— fractometer(XRD) and transmission electron microscope (TEM )． Theresults show thatkeepingotherprocessparametersfixed，thedepositionrateofCunanoclusterfilms increasesgraduallyandthendecreaseswiththeincreasingofsputteringcurrentandAr 收稿 日期 ：2015-05—24；修 回 日期 ：2015-09—07 基金项 目：国家 自然科学基金资助项 目(11375159