强激光辐照对无氢DLC 膜光学特性影响.docVIP

强激光辐照对无氢DLC膜光学特性的影响( 徐均琪，陈银凤 (西安工业大学 光电工程学院，西安 710032) 采用非平衡磁控溅射（UBMS）在Si基底上制备了无氢类金刚石薄膜。用激光损伤测试系统对DLC薄膜进行激光辐照，激光波长为1064 nm，脉宽为10 ns对辐照前后进行了透过率、激光损伤阈值（Laser-induced damage thresholdLIDT）及拉曼光谱测试研究结果表明当激光辐照能量密度从0升高至0.5 J/cm2时透过率峰值从67.06%降至58.27%；当脉冲次数从0增加至3时，透过率峰值从67.06%降至57.65%，LIDT从0.94降至0.5 J/cm2。通过对Raman光谱进行分析认为辐照过程中sp3向sp2的转变是导致透过率和LIDT降低的重要原因类金刚石；激光辐照；透过率；Raman；LIDTO484.5 文献标识码：A 类金刚石薄膜(diamond-like carbon，DLC)是由sp3sp2键组成的非晶碳膜。根据薄膜内氢含量的多少，一般可分为无氢的和含氢的即a-C 和a-C: H，无氢薄膜比含氢DLC薄膜具有更高的硬度、弹性模量和耐磨性，在潮湿环境下的摩擦系数比含氢DLC的低一半，此外，无氢DLC薄膜还具有、红外区光学性能和化学稳定性更好等特点，因此，无氢DLC薄膜比含氢DLC薄膜应用更加广泛[1-2]。DLC薄膜一个重要用途就是作为红外窗口的增透保护膜。常规的红外抗激光薄膜材料，难以经受酸雨、风沙等恶劣环境的侵蚀，因此，DLC薄膜就成为红外增透保护的一种理想材料。 随着大功率、高能量激光器件的不断发展和战术激光武器的出现，强激光对薄膜元件的破坏可能造成光电系统的损伤、失控甚至于整体系统的失效。研究表明[3-4]，DLC膜的激光损伤阈值并不高，严重影响了类金刚石薄膜在红外系统的应用。实际应用对DLC薄膜提出了具备高损伤阈值的要求，然而由于DLC薄膜损伤机理尚不明确，为高损伤阈值薄膜的制备带来了困难。 目前，各国学者就激光辐照对DLC薄膜的影响已经有一定的研究成果。Daminelli和Pentzien等人研究了波长为532 nm、频率为8 ns激光器作用下含氢DLC薄膜的抗激光损伤阈值与膜厚、激光能量的关系 [5]。Naoki Yasumaru和Kenzo Miyazaki等人研究了线性偏振光和圆偏振光的飞秒激光作用下含氢DLC薄膜的损伤特性及表面结构随激光能量的变化[6]。Y.Dong和H.Sakat等人研究了DLC薄膜在飞秒激光器作用下的损伤阈值和损伤形貌，结果表明：多脉冲作用方式下，脉冲作用次数越多，损伤面积越大，损伤越严重[7]。D.Vouagner等人测量了射频等离子辅助化学气相沉积方法制备的DLC薄膜在3个波长213(16.1 ps)、266(18 ps)、532(25.5 ps)辐照下的激光损伤阈值分别为0.48、0.41和0.47 GW/cm2 [8]。 目前学者主要研究了激光辐照对含氢DLC薄膜的抗激光能力、损伤形貌和晶粒结构等性质的影响，对光学性能影响的研究并不多，而对无氢DLC薄膜的激光辐照研究则更少。本文对非平衡磁控溅射制备的无氢DLC薄膜进行了激光辐照，并对辐照前后的薄膜进行了透过率、LIDT和拉曼光谱的测量，探讨了激光辐照对无氢DLC薄膜光学性能和激光损伤特性的影响，并通过对光谱的解谱分析得到了产生该影响的原因。 11.1 样品制备 室温下，采用非平衡磁控溅射法在单晶双面抛光的硅片上沉积了无氢DLC薄膜，Si片尺寸为15×15 mm。薄膜沉积前，用硅片放入真空室。当工作室真空度达5×10-3 Pa时，打开清洗离子源对基片表面清洗15 min，清洗电流2 A, 电压1 kV。制备励磁电流100 A，靶电流1 A，工作真空度1.0 Pa，时间为5 h，沉积速率为1 nm/min左右。一次制备6个薄膜样品，S1、 S2、 S3、 S4、 S5和 S6。 1.2 激光辐照 采用自主研发的激光损伤测试系统对无氢DLC薄膜进行激光辐照，其原理图如图1所示。激光器工作模式为TEM00，输出光斑为高斯光斑，波长为1064 nm，脉宽为10 ns。能量衰减系统由多个衰减片组合来实现，其能量密度范围为1~50 J/cm2。由于DLC薄膜的LIDT通常小于1 J/cm2，为保证薄膜在激光辐照时不被损坏，把样品固定在一个直径为cm，长为65 cm的圆柱体的一端，另一端固定在样品台上，随着由步进电机驱动的2维平台的规律移动，激光将辐照到样品的整个表面。S1不进行激光辐照，与辐照后的样品进行对比。采用F=0.4 J/cm2和F=0.5 J/cm2分别辐照DLC薄膜样品S2和S3；当F=0.4 J/cm2时分别S4、S5S6进行辐照。 图1