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中频反应磁控溅射al2o3 薄膜的光学性质 - journal of northeastern
28 5 ( ) Vol128,No. 5
2 00 7 5 Journal of Northeastern Uni ersity( Natural Science) May 2 0 0 7
Al O
2 3
1 2 1 3
, , ,
( 1. , 110004;
2. , 110016;
3. , 100083)
: Al O ,
2 3
Al O ,
# 2 3
, Al O 400~ 1 100 nm
2 3
, Al O
2 3 #
: Al O ; ; ; ;
2 3
: O 484.4 : A : 10052 3026(2007)052 06872 05
Optical Properties of Al O Thin Film Prepared Through
2 3
Medium2Frequency ReactiveMagnetron Sputtering Process
1 2 1 3
LIAO Guo2j in , WEN Li2shi , BA De2chun , LI U Si2ming
( 1. School of Mechanical Engineering and Automation, Northeastern Uni ersity, Shenyang 110004, China;
2. Department of Surface Engineering, Institute of Metal Research Chinese Academy of Science, Shenyang
110016, China; 3. School of Mechanical Engineering and Automation, Beijing Uni ersity of Aeronautics and
Astronautics, Beij ing 100083, China. Correspondent: LIAO Guo2j in, associate professor, E2mail: liaoguoj in @
163. com)
Abstract: Aluminum oxide thin films were deposited through the medium2frequency reacti e
magnetron sputtering process. An effecti e and simple way was therefore de eloped to analyze
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