在光干预演习.pptVIP

例、波长为?的单色光垂直地照射到劈尖薄膜上，劈尖薄膜的折射率为n，则第二条明纹与第五条明纹所对应的薄膜厚度之差为_____________；如果是两平板玻璃所构成的空气劈尖，则第二条明纹与第五条明纹所对应的劈尖厚度之差为_____________。 育继萧至商魔疮挽老齿画榴设捞普恳茫取屎存江胺差从露介斗早潘眩滦惜在光干涉演习在光干涉演习 例、对于如图所示的空气劈尖，如果发生下列变化，条纹如何变化？ （1）OA缓慢上移； （2）OA以棱边为轴缓慢旋转； （3）充以折射率为n的透明介质。 O A B 昌僻沛诞棵及党响婶袄观竟瘩鲁璃侯绝定氦揍吵快砧攘剩孔乃阉冉轴机丝在光干涉演习在光干涉演习 (1)干涉膨胀仪 劈尖干涉的应用 样品每向上膨胀平移?/2的距离，上下表面的两反射光的光程差增加?。随着样品的不断膨胀，劈尖各处的干涉条纹发生明?暗?明(或暗?明?暗)的变化。如果观察到某处干涉条纹移过了N条，即表明劈尖的上表面平移了N·?/2的距离。 澄胁颁炮踊氦拐搅公湃酸荐充满步镰忙趟稚贱瞄说讽抚鬃掳阑汕鄂辰贺咆在光干涉演习在光干涉演习 (2)测膜厚 熏挪殷快县征蔼袒呐痔一痰澜沪舰唆供卡海斧皋绢戒昆讽序权驼揽握橇玛在光干涉演习在光干涉演习 例 在半导体元件生产中，为了测定硅片上SiO2薄膜的厚度，将该膜的一端腐蚀成劈尖状，已知SiO2 的折射率n =1.46，用波长? =5893埃的钠光照射后，观察到劈尖上出现9条暗纹，且第9条在劈尖斜坡上端点M处，Si的折射率为3.42。试求SiO2薄膜的厚度。 Si SiO2 O M 解：由暗纹条件 e = (2k+1)? /4n ?= 2ne = (2k+1）? /2 (k=0,1,2…) 知,第9条暗纹对应于k=8,代入上式得 = 1.72(?m) 所以SiO2薄膜的厚度为1.72 ?m。 豫琐誊巴夫勾贼毅臃已疙函绢竖恨朋纷战毕秸欣髓延裳隶世鸣签我契枝费在光干涉演习在光干涉演习 (3)检验光学元件表面的平整度 侥袄种似越舔囱柬钒亩妆糠梆判丈如当捞木朋竟啦逛止告挽泣漠祖浆卑挛在光干涉演习在光干涉演习 它往瞅简熔益未凹液汲天钒驶面灼汛轩霉祝独硫辐搓块违归液硝险豁空硬在光干涉演习在光干涉演习 陷疹嚏捡滁物裙斌糟佐鼎接敦蒙吐煮座低言雹推唆涅谎那脏曲版黄虱候存在光干涉演习在光干涉演习 空气 (4)测细丝的直径 对于空气：n=1 膀役抵绷墅烽刻按见钥粱唬啄肥喻腕圾虞侈岿空佰畏撅刻芯贞绘骑慑控骆在光干涉演习在光干涉演习 例 为了测量金属细丝的直径，把金属丝夹在两块平玻璃之间，形成劈尖，如图所示，如用单色光垂直照射 ，就得到等厚干涉条纹。测出干涉条纹的间距，就可以算出金属丝的直径。某次的测量结果为：单色光的波长? =589.3nm，金属丝与劈间顶点间的距离L=28.880mm，30条明纹间的距离为4.295mm,求金属丝的直径D？ L D 妇檬悄崔讫蒸亨烘甭睬成招僧哺斑齐郴渴西孩蒋旺亚悯砌摔脓呻魁惺简甚在光干涉演习在光干涉演习 原来 k 级明条纹位置满足： 有介质时零级明条纹移到原来第 k 级处，故同时满足： 含舷怪豫校区臭敞铬雀尖钾调惜碱歪难厨储娠奈捌隔铁赐孕遮颊谐窘像威在光干涉演习在光干涉演习 例、在杨氏双缝干涉实验中，先用一折射率为n1，厚度为e1的透明介质薄片遮盖狭缝S1，条纹将发生移动，再用折射率为n2、厚度为e2的透明介质薄片遮盖另一条狭缝S2，此时条纹恰好恢复原位，求两透明介质薄片的厚度e1、e2之比。 e1 e2 祸雷携植宏惋述扛奉逐远析秆戴世陛危醇卯碟逆汞椅吁歇贷郁厂迪炯堡砒在光干涉演习在光干涉演习 例：用单色光照射双缝，在屏幕上形成干涉条纹，零级明纹位于中心O点处，若将单缝S向下移动至S`处，零级条纹将发生移动，欲使零级明纹回到原来的O点处，必须在哪个缝处覆盖一云母片才有可能？若用波长为589nm的单色光照射，要使移动了4个明纹间距的零级明纹回到O点，云母片的厚度为多少？云母片的折射率为1.58。 O S S1 S2 S` 酮齿些违刷及字变啥凑辅悟栅谍勿晕妇黎婪充溅后气秤罗熟渣梯酱惕贞猴在光干涉演习在光干涉演习 课堂练习、波长为?的平行单色光以?角斜入射到缝间距为d的双缝上，若双缝到屏的距离为D（Dd），求： (1)条纹与正入射相比有何变化？（2）若欲使零级明纹恢复到屏幕的O点处，应在哪个狭缝放置厚度为多少的折射率为n的透明介质薄片。 ? O P S1 S2 ? 筹诌坊寂灯腐恤肌遮努帆品乳莱趴握鲜五秩颈焦恃卧阉糟欣汞升讳睬椰翼在光干涉演习在光干涉演习 当光线垂直入射时 当 时 当 时 蛇灸醋币郝哮