纳米硫化铜修饰玻碳电极的原位制备及分析应用.pdfVIP

纳米硫化铜修饰玻碳电极的原位制备及分析应用／刘有芹等 ·29 · 13．88、13．14、12．15、10．65、8．98、7．32)。NaOH浓度在 (图8(b))，在0．5S内即可得到稳定的电流值。在长达800S 0．O1～O．001mol·L 范围内，H2O2氧化峰电流达到最大； 时间内对 0．2mmol·L-。HO 的响应 电流保持稳定，表明 而相应的氧化峰电位随着NaOH浓度的增大负向移动，这对 纳米 CuS粒子电催化氧化 HO 具有较高的稳定性 ，为获得 降低干扰有重要意义。综合考虑峰电流和峰电位，选择 0．01 准确的分析结果提供了保障。同一条件制备 5支电极，对 mol·I NaOH作为检测 HO：的支持电解液。氧化峰电 0．4mmol·L_。H O 响应的电流变化小于 5 。将制备好 流 ( ／A)与扫描速率 (v／(mV ·S ))的平方根成正比 的CuS／GC电极在室温下保存，在保存期间每隔2d测试一 (一1．676+2．369v ，R一0．9966)，表明电催化氧化 H2O2 次，2个月后其电催化活性为其初始活性的86 ～9O 。 过程受扩散控制。新制备 电极连续扫描 5O圈后，氧化峰电 流仍然保持初始值的97％～98 ，表明修饰电极的催化活性 非常稳定 。 ￡，s 图9 干扰物 (0．6mmol·L )在 0．01mol·L NaOH溶液 中对CuS／GC电极响应 15l~mol·L l{202的 电流时间图(O．1V) 图7 pH值对 CuS／GC催化氧化 H2o2的峰电位和 Fig．9 AmperometricresponseofCuS／GCtosomeelcet- 峰电流的影响 roactiveinterferents(0．6mmol·L1)in0．01otol·L Fig．7 TheeffectofpH onthepeakpotentialandcurrentof NaOHoslutioncontaining15pmol·L H202at0．1V Clls／GCforII202oxidation 图8 CuS修饰 GC电极在 0．01mol·L NaOH溶液中、 t／s c(H202)(。 c5)：0．033mmol·L-l,O．067mmol·L～， 0．1V时对 H202响应的电流时间图 0．132mmo]·L-I0．264mmo]·L-l0．528mmol·L-I： , , Fig．8 AmperometricresponseofCuS／GCtoH202in (—c1。)：O．67 otol·L-1,1．33 otol·L～，2．641．zmol·L～， 5．27 otol·L～，10．44 mol·L 0．01mol·L_。NaOH solutionat0．1V