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光刻与微纳制造技术的研究现状及展望kdh
加工、 测量与设备
与
显微、测量、微细加工技术 设备
Processing ， Measurement and Equipment
Microscope ，Measurement ，Microfabrication Equipment
光刻与微纳制造技术的研究现状及展望
ａ ｂ
，
周 辉 杨海峰
（ ； ， ）
中国矿业大学 孙越崎学院 机电工程学院 江苏 徐州
ａ． ｂ． ２２１００８
： ——— 。 ，
摘要 首先介绍了微纳制造的关键工艺技术 光刻技术 回顾了光刻技术的发展历程 介绍了
。 ，
各阶段主流光刻技术的基本原理和特点 阐述了国内外对光刻技术的研究现状 并讨论了光刻与
。 、
微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题 然后重点介绍了浸没光刻 极紫外光
、 、 、 、 、 ，
刻 电子束光刻 离子束光刻 Ｘ射线光刻 纳米压印光刻等技术的概念 发展过程和特点 并
。 、
对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较 最后结合国内外生产商 工程师和研究学
， 。
者的研究成果 对光刻技术的未来发展做出展望
： ； ； ； ；
关键词 光学技术 微光刻技术 微纳米加工技术 下一代光刻技术 分辨率增强技术
中图分类号： ； 文献标识码： 文章编号： （ ）
ＴＮ３０５．６ ＴＮ３０５．７ Ａ １６７１－４７７６ ２０１２ ０９－０６１３－０６
ＲｅｓｅａｒｃｈＳｔａｔｕｓａｎｄＰｒｏｓｅｃｔｏｆｔｈｅＬｉｔｈｏ ｒａｈ ａｎｄ
ｐ ｇ ｐ ｙ
Ｍｉｃｒｏ ＮａｎｏＭａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏ
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