高功率脉冲磁控溅射等离子体特性与动力学研究进展.pdfVIP

第 32卷第 2期 中 国 科 学 院 大 学 学 报 V01．32 No．2 2015年 3月 JournalofUniversityofChineseAcademyofSciences March 2015 文章编号 ：2095．6134f2015)02—0145-10 Review Article Plasmacharacteristicsanddynamicsinahigh power pulsedmagnetron sputteringdischarge木 XIA Yuan ，GAO Fangyuan，LIGuang (InstituteofMechanics，ChineseAcademyofSciences，Beijing100190，China) (Received19March2014：Revised25July2014) XiaY ，GaoF Y，LiG．Plasma characteristicsanddynam icsin ahighpowerpulsedmagnetron sputtering discharge [J]．JournalofUniversityofChineseAcademyofSciences，2015，32(2)：145-154． Abstract Highpowerimpulsemagnetronsputtering(HIPIMS)isapromisingtechnologythathasdrawn attention in bothacademiaand industryinrecentyears．HIPIMS，alsoknownashighpowerpulsemagnetron sputtering，isa physicalvapordeposition technique．Thehigh powerhasbeen broughtto extremely high dischargecurrentdensityofseveralA ·cm 一 and HIPIMShasbeen successfullydeveloped toproducehigh plasmadensitiesoftheorderof10 m ～．Theplasmapropertiesin sputteringprocesshaveshown thegreat advantages，whichmakeitpossibletocontrolthedepositionprocessandoptimizetheperformanceoffilms．In thispaper，we show the I-V characteristicsofdischarge and the design ofpower supply，aswellasthe ionizationrateofsputtered atoms．Furthermore，the spatialand thetemporalevolutionofplasma，thenon— normaltransportofionizedspecies，andthedepositionratearereviewed． Keywords HIPIMS；HPPMS；plasmadynamics；dischargecharacteristic；high ionizationrate CLC Number：TB43 Documentcode：A doi：10．7523／i．issn．2095—6l34．2015．02．001 高功率脉冲磁控溅射等离子体特性与动力学研究进展 夏 原，高方圆，李 光 (中国科 学院力学研究所 ，北京 100190) 摘 要 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)作为一项极具发展前途的物理气相沉积新技术 ，近年 来 引起学术界和工业界的广泛关注．HIPIMS技术 (也被称为 HPPMS)可以提供足够的放 电功 率来获得极高的电流密度 ，数值达到几个 A ·cm。。；同时，可以得