高压退火对FePt：Ag纳米薄膜的微结构和矫顽力的影响.pdfVIP

第36卷 第6期 燕山大学学报 Vb1．36 No．6 2012年 l1月 JournalofYanshanUniversity NOV．2012 文章编号：1007-791X (2012)06-0486-05 高压退火对FePt：Ag纳米薄膜的微结构和矫顽力的影响 李 扬 ，李晓红 ，张湘义 ，’ (1．河北大学物理科学与技术学院，河北 保定 071002；2．燕山大学材料科学与工程学院，河北 秦皇岛066004) 摘 要：采用直流磁控溅射技术在 自然氧化的Si基片上生长厚度约为 100nm的原始态FePt：Ag纳米复合薄膜， 采用高压退火调控该薄膜的微结构和矫顽力。在873K温度下，当退火压力从常压增加到0．6GPa时，退火后 所生成的L1。-FePt薄膜的有序畴尺寸从d=19rim减tj~Ud=-9nm，FePt薄膜的晶粒尺寸从D=34nnl减d,~UD=13 nm，且有序畴尺寸和晶粒尺寸分布的均匀性明显提高。随着退火压力的增加 FePt：Ag薄膜的矫顽力降低，因 此，高压退火可以用来调控FePt：Ag复合薄膜的矫顽力。 关键词：FePt薄膜；磁记录；高压；微结构；矫顽力 中图分类号：TB43 文献标识码：A DOI：1O．39690．issn．1007-791X．2012．06．003 尺寸和晶粒尺寸、提高尺寸分布的均匀性以及调控 0 引言 FePt薄膜的矫顽力对促进FePt薄膜作为超高密度 具有 L1。有序结构的FePt薄膜由于具有非常 磁记录介质材料应用和发展具有非常重要的意义。 高的磁晶各向异性常数 =(4～7)×10erg／cm 而具 要减小 FePt薄膜的有序畴尺寸和晶粒尺寸并提高 有特别小的超顺磁临界尺寸2～3nm，因而成为最 尺寸分布的均匀性需要促进 FePt薄膜 L1。有序化 有发展前途的新一代超高密度磁记录介质材料 “。。 过程中有序畴的形核并抑制其生长，前人的研究发 为了提高磁记录介质的磁记录密度同时降低记录 现高压退火可以有效地促进纳米晶相变过程 中新 噪声，FePt薄膜颗粒需要被非磁性介质分隔开，非 生成的纳米晶的成核并抑制其生长 [9-10] 因此本论 磁性介质用来降低 FePt磁性颗粒之间的交换耦合 文采用高压退火来降低 FePt：Ag纳米薄膜的有序 作用，且被非磁性介质隔离开的磁性颗粒尺寸需要 畴及晶粒尺寸，调控FePt薄膜的矫顽力。 减4,Nd~5nm且尺寸分布要特别均匀 4[-5]o以往大 量研究表明，Ag是一种比较理想的非磁性介质， 1 实验方法 可以有效地降低 FePt颗粒之间的交换耦合作用。 室温下，采用直流磁控溅射技术在 自然氧化的 人们一般通过制备 (FePt)一A＆共溅射薄膜和 Si(001)基片表面制备原始态的FePt：Ag纳米复 [FePt／Ag] 或者 [Fe／Pt／Ag] 多层膜的形式添加 合薄膜，磁控溅射的靶材选用在 FePt靶表面放置 Ag[6-8]但无论FePt：Ag纳米复合薄膜 以何形式制 Ag片，通过Ag片的数量来调控Ag的含量。所制 各，它们都面临的一个共同问题就是要减小 FePt 备的薄膜的厚度约为100nm，Ag的含量约为 10％。 薄膜的有序畴尺寸以及晶粒尺寸并提高尺寸分布 溅射气压为6Pa。对所制备的原始态FePt薄膜