光学玻璃抛光材料前驱体的制备研究-中国表面活性剂网.PDF

第 25第 4 期 江 　　西 　　冶 　　金 Vol. 25, No. 4 　　 　　　　　　　　　　 　　 　　　　　　　　　　 2 0 0 5年 8月 J IAN GX IM ETALLUR GY Augu st　2005 　　文章编号 :(2005) 04 000703 光学玻璃抛光材料前驱体的制备研究 吴新根 ,陈　琨 ,李常清 ,李才生 (江西金世纪新材料股份有限公司 ,江西 南昌　3300 13) 　　摘 　　　要 : 　利用碳酸氢铵溶液沉淀低铈混合氯化稀土料液 ,制备稀土抛光材料前驱体 。通过加入适当 H SiF 作添加剂以改善抛光粉的抛光性能 ,着重研究添加剂的加入 ,原料浓度及灼烧温度对晶体粒径的影响 。 2 6 　　关 　键 　词 : 　抛光材料前驱体 ;粒径 ;表面活性剂 中图分类号 : 　TQ 17 14　　　文献标识码 : 　B Prepara tion Study on the Forerun of Polish in g M a ter ia ls U sed for O p tica l Gla ss WU X ingen , CH EN Kun , L I Changqing, L I Caisheng (J iangxi Golden Century A dvanced M aterials Co. , L td. , J iangxi N anchang 3300 13, Ch ina) 　　A b stract: 　The forerun of rare earth s polish ing m aterials is p rep ared by p recip itating low cerium conten t m ixed rare earth s ch lorizde w ith ammon ium b icarbonate . The polish ing p rop ertie s of po lish ing powders are imp roved when m iing additive as H SiF . 2 6 M eanwh ile, the influences of m ixing additive, raw m aterial concen tration and ign ition temp eratu re on crystal p artice size are studied. 　　Key W ords: 　the forerun of po lish ing m aterials; p raticle size; su rfactan ts 稀土原料来生产高质量抛光粉是人们常用的一种方 1　概述 [ 2 ～4 ] 法 , 。但是 ,在高速抛光技术中 ,对抛光粉的要 从 20世纪 40 年代开始 ,稀土氧化物就被用于 求不能只注重切削力的提高 ,抛光粉的其他物理性 光学玻璃的抛光 。由于稀土抛光粉的使用可以大大