应用扫描探针显微镜技术制作奈米结构（副本）.pdfVIP

聖約翰學報 第二十四期 應用掃描探針顯微鏡技術製作奈米結構 應用掃描探針顯微鏡技術製作奈米結構 Nanoscale Structure Fabrication by Scanning Probe Microscope 張瑞慶 賴炳宏 葉甄佩 R. C. Chang B. H. Lai C. P. Yeh 聖約翰科技大學 機械與電腦輔助工程系 摘 要 本文探討掃描探針顯微鏡之奈米加工技術，主要作法為施加一偏壓於原子力顯微鏡(AFM)之探針 與基材間，使產生穿隧電流，並於基材表面產生陽極氧化作用，來製作表面氧化層之奈米結構。本 文使用接觸式掃描探針製作奈米結構，並選用平整表面的晶圓做為基材。藉由外加電壓、探針掃描 速率、環境溼度等參數，探討其對氧化物結構的高度及寬度的影響，歸納出一最佳化值，期望利用 這數值製作大面積的氧化層結構，可作為未來產業的應用。 關鍵詞：奈米結構、掃描探針顯微鏡、穿隧電流 ABSTRACT A nanoscale machining technology by using a scanning probe microscope is presented in this work. A voltage is applied between the conductive probe of the atomic force microscope and the substrate, which results a tunneling current and fabricates a nanoscale oxidation layer on the substrate. A contact mode scanning probe is adopted to produce the nanoscale structures, while a highly polished silicon wafer is chosen as the substrate. The effects of applied voltage, probe scanning rate, and humidity on the height and width of the nanoscale structures are concluded to an optimal fabrication parameter. Based on the optimal parameter, a large area nanoscale structure can be conducted, providing the probability of industry applications in the near future. Key words : Nanoscale structures, Scanning probe microscope,Tunneling current 1 聖約翰學報 第二十四期 應用掃描探針顯微鏡技術製作奈米結構 壹、前言 原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope， AFM），是由Binnig, G等三位學者於1986年所發明， 隨半導體製程的進步及成熟，現今高科技產