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tb3+掺杂高lu-gd氟氧化物玻璃的制备及其光谱性能
·
光电子 激光
第 卷第 期 年 月 ·
24 5 2013 5 Vol.24No.5 Ma 2013
y
JournalofO toelectronics Laser
p
3+掺杂高 氟氧化物玻璃的制备及其光
Tb LuGd
-
谱性能
*
, , , , ,
杨 斌 徐 波 张约品 王 倩 夏海平 王金浩
( , )
宁波大学光电子功能材料实验室 浙江宁波315211
3+
: , 、
摘要 通过高温熔融法制备了 组 掺杂高 氟氧化物玻璃样品 测试了样品的密度 透
10 Tb LuGd
-
3+ 3+
、 、 、 、 。
射光谱 激发光谱 紫外激发发射光谱 射线激发发射光谱和 的荧光寿命 着重研
X Tb Gd
3+ 3+ 3+ 3+
究了 和 对 发光的影响, 的浓度猝灭效应以及 与 的能量传递。
Gd O Lu O Tb Tb Gd Tb
2 3 2 3
, , / 3 ; 3+
结果表明 样品的密度很高 部分样品密度已经超过 6 cm Tb 的浓度猝灭效应使得 350 450
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