96 光学薄膜表面形貌的原子力显微镜观察 - 本原扫描探针显微镜spm .pdfVIP

第 19 卷 第 5 期 电　子　显　微　学　报 V o l19,N o5 2000 年 10 月 Journa l of Ch inese Electron M icroscopy Soc iety 200010 文章编号:(2000) 0507040708 光学薄膜表面形貌的原子力显微镜观察 马　孜　吕百达 ( 四川大学电子信息学院, 成都 610064) 肖　琦　代　军 (西南技术物理所, 成都 610041) 摘　要: 采用原子力显微镜( ) , 对常见的氧化物单层膜、增透膜和高反膜的表面形貌进行了观 A FM 测, 并初步研究了激光预处理对薄膜表面形貌的影响。 n 关键词: 光学薄膜; 表面形貌; 原子力显微镜 c 分类号: O 484; TH 742. 9　　文献标识码: A . 光学薄膜的微结构决定了薄膜的物理和光学性能, 在高功率固体激光器中, 薄膜内的各种缺 陷和缺陷密度导致薄膜对激光的吸收和散射, 进而决定了薄膜的损伤阈值。 m 目前已有许多进行薄膜微观分析的方法, 对氧化物为主的介质光学薄膜表面形貌的观测主 [ 1 ] o 要采用扫描电子显微镜(SEM ) 和透射电子显微镜(T EM ) 。对于常用的氧化物薄膜来讲, 其导 电性能很差, 用电镜观测薄膜表面形貌时对样品制备有一定要求, 如对 显微术, 需在薄膜 c SEM . 表面蒸镀一层金膜或其它金属膜, 覆盖了光学薄膜的表面形貌细节; 对 T EM 显微术, 一种方法 采用 复型, 对薄膜表面断面不是直接观测, 且复型会引起薄膜形貌细节的丢失, 另一种方 P t C m 法是直接沉积, 但薄膜厚度只能在 100nm 左右, 无法观测数个 m 厚的多层膜。 1986 年 . 提出原子力显微镜( ) 的概念[ 2～ 3 ] , 由于其无需样品导电, 且无需额外 C B inn ig A FM p 的真空装置, 对被观测样品的限制很小, 尤其适合研究光学介质薄膜的表面形貌, 在国外已用于 s 激光对薄膜的损伤研究[ 4～ 5 ] 。本文采用中科院化学所本原公司的CSPM 930 扫描探针装置上的 . 原子力显微镜, 对常用的 、 、 、 、 单层膜和 组成的双层增透 T iO 2 ZrO 2 H fO 2 Y2O 3 SiO 2 ZrT iO 4 SiO 2 膜和 25 层高反膜的形貌进行了观测, 获得了近原子分辨介质薄膜表面形貌, 并初步观察了激光 w 预处理对薄膜形貌的影响。 w w