非平衡磁控溅射剖析.pptVIP

模板来自于 * 非平衡磁控溅射及应用 主要内容 非平衡磁控溅射简介 分类 特点 研究实例 一、非平衡磁控溅射 对于一个磁控溅射靶，其外环磁极的磁场强度与中部磁极的磁场强度相等或相近，则称为“平衡”磁控溅射靶。一旦某一磁极的磁场相对于另一极性相反的部分增强或者减弱，就导致了溅射靶磁场的“非平衡”。 图1 非平衡磁控溅射源示意图 二、分类 非平衡磁控溅射系统有两种结构： 外环磁场强度高于芯部磁场强度，磁力线形成闭合回路，部分外环的磁力线延伸到基体表面。 芯部磁场强度比外环高，磁力线没有闭合，被引向真空室壁，基体表面的等离子体密度低； 图2 （a）外环磁场强度高于芯部示意图 (b) 芯部磁场强度高于外环示意图 镜像：由于两个靶磁场的相互排斥，纵向磁场都被迫向镀膜区外弯曲，电子被引导到真空室壁上流失，总体上降低了电子进而离子的数量。由于镜像磁场方式不能有效地束缚电子，等离子体的溅射效率未得到提高。 闭合磁场：非平衡靶对在镀膜区域的纵向磁场是闭合的。只要磁场强度足够，电子就只能在镀膜区域和两个靶之间运动，避免了电子的损失，从而增加了镀膜区域的离子浓度，大幅度提高了溅射效率。 图3?（a）双靶闭合磁场磁控溅射 （b）双靶镜像磁场磁控溅射 三、特点 优点： 1、靶材离化率高，薄膜沉积速率快 2、在复杂基体和不同材料上实现了均匀沉积