第2章光纤与光缆.pptVIP

* * * * 关键步骤（一） 沉积：反应生成的固体颗粒由于热泳现象会附着在石英管壁上 （处于温度场中的悬浮颗粒，受力的作用会向低温区运动） 先沉积包层，再沉积芯层 化学反应 预制棒制备方法——MCVD工艺 预制棒制备方法——MCVD工艺 关键步骤（二） 烧结：沉积过程结束后，获得一个中心带小孔的石英棒，通过加大火焰降低火焰移动速度进行烧结，可以使棒缩为实心。 预制棒制备方法——MCVD工艺 MCVD法预制棒生产设备照片 PCVD: Plasma Chemical Vapor Deposition PCVD （ 1976年，荷兰Philips ） 使用微波在石英管内产生高温等离子，使得原料发生反应。 由于气体电离不受石英管热容量限制，微波加热腔可以沿石英管做高速往复运动，PCVD 法效率高，速度快，每层厚度薄 预制棒制备方法——PCVD工艺 OVD 工艺（1970年，美国Corning） 用火焰水解法沉积芯层和内包层，制成疏松体附着于靶棒上 与MCVD顺序相反，先沉积芯层再沉积包层。速度快，效率高，可做大棒！化学反应不同！ OVD-Outside Vapor Deposition 预制棒制备方法——OVD工艺 烧结 水解反应 预制棒制备方法——OVD工艺 此时的SiO2是水解产物呈烟雾状，沉积在靶面上 火焰水解反应：四氯化硅，四氯化锗等原料由喷灯喷出，在经过火焰