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光电材料创意
萬能科技大學 --化工與材料工程系
光電材料創意製程
神奇的黃光微影毫雕技術
專題 光電能源的轉換
項目 超導體材料之製作
有機發光材料之合成
Department of Chemical
Materials Engineering
創意無限 夢想的起點
專題一、神奇的黃光微影毫雕技術
一、相關原理:
傳統印刷電路板導體部份的製作,是在整片的銅箔上形成抗蝕圖
形,在抗蝕圖形的保護下由蝕刻溶液將不需要的裸銅部份做選擇性的
除去,再將抗蝕圖形除去,則可製得導體部分,早期的抗蝕圖形是以
網印的方式塗布,但這種網印油墨的精確度不高,己無法符合目前細
線路印刷電路板的需求,所以取而代之的是利用感光高分子做成光阻
(photoresist) 以曝光及顯影等步驟,將抗蝕圖形製作於銅面上,製程雖
較複雜,但解析度較高,己成為目前製程的主流。
光阻
光罩
正型光阻 負型光阻
顯 影
蝕 刻
去光阻
微 影 製 程
光阻是一種感光性材料,依曝光後產生的反應機構,可分為負型
光阻及正型光阻二類,但目前應用於印刷電路板的光阻劑以負型光阻
為主而半導體與平面顯示器產業主要以正型光阻劑為主。
二、材料與藥品
負型乾膜光阻劑、銅箔基版 (10cmX10cm) 、顯影劑(1~2wt%
Na CO )
2 3
三、儀器設備
複貝機、UV-燈管、線路底片、顯影機、顯微鏡
四、實驗步驟
(1) 、將乾膜光阻裁切成與銅箔基版同大小之尺寸,將裁切後之乾
膜光阻貼附於銅箔基版上,並調整複貝機加熱溫度約 90度,接著進
行乾膜與基版之熱壓製成。 (注意不要有氣泡之殘留)
(2) 、在電腦設計出所需線路的圖形,並透過雷射印表印列於投影
片上,當作曝光時所需之底片。
(3) 、將圖案底片放置於銅箔基板上進行曝光製成觀察其曝光前(
後光阻劑之顏色變化與光阻表面之變化 ) 。
(4) 、將曝光後之基板放置於顯影機內之顯影機平台上,開始進行
顯影步驟 。若發現其線路並未顯影完成請重複調整顯影條件以確定線
路已完全轉移至基板上 。
(6) 、將顯影完畢後之基板放置於顯微鏡下觀察其顯影後之線路圖
形,並記錄之 。
專題二、光電能源的轉換
實驗步驟、
1. 秤約 2g 之奈米結晶TiO2 粉末置於研缽中,加入數滴稀醋酸溶
液,進行研磨。反覆研磨並於過程中再加入數滴稀醋酸溶液,直
到獲得得如牙膏狀之均勻膠體懸浮。稀醋酸溶液製備法( : 將0.1
mL冰醋酸加入 50 mL 去離子水中)
2. 利用三用電錶量測電阻,辨別出導電玻璃 (ITO glass) 之正反面。
其導電面之電阻約為20-30 W 。
3. 將ITO 玻璃導電面朝上,將其三個邊貼上魔術膠帶。用沾乙醇的
紙巾輕輕擦去指紋或可能的油污。
4. 以滴管加入數滴TiO2 膏狀膠體懸浮液,並以玻棒如桿麵般將之
平舖於ITO 玻璃上。魔
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