增益均匀性等性能良好 - Indico.PPT

* * * * * * * 大面积THGEM及应用成像研究 刘宏邦 刘倩 中国科学院大学 * Outline THGEM 大面积THGEM研制 THGEM 性能研究 THGEM应用成像研究 同步辐射X-ray 衍射仪 ASIC数字读出成像初步研究 表面污染监测仪 * * THGEM 易于制造维护、清洁要求较GEM低、级联使用方便、相对价廉等优点 THGEM在亚mm空间分辨的粒子径迹测量上有极大的优势 在未来加速器对撞机升级中，THGEM可应用于LHC的μ子探测器升级，ILC的取样型量能器； 用于双相暗物质探测器液氙LXe闪烁光探测； 用于单光子成像，例如：环形成像切伦科夫探测器（RICH）； 用于中等分辨率、快速（ns）的X射线和中子成像等。 Cu G-10 Typical parameters: Thickness t = 0.4 - 3 mm Hole diameter d = 0.3 - 1 mm Pitch a = 0.7- 7 mm Chechik et al. NIM A535 (2004) 303 2004 由 A. Breskin 等人发明 采用标准PCB生产工艺制作 大面积THGEM研制 Global etching techniques 5~10 μm rim Easy to make large THGEM Globe etching (micro etching) No holes in this area Drilling 30×30cm 205,000 holes ~4 days drilling 共制作5批次，80张THGEM膜 型号： 5×5cm2， 10×10cm2 （t=0.2 mm, d=0.2 mm, p=0.5 mm） 10×10cm 2，20×20cm2 （t=0.3 mm, d=0.3 mm, p=0.7 mm） * THGEM 性能研究 8 Hours Gain Stability 5×5cm2 1 month Gain Stability Ne/CH4(5%) Ar 100% Ar/iC4H10(5%) 不同气体中薄型THGEM的增益曲线 Energy resolution 15.9% @ Gain = 3700 Ar/iC4H10(97/3) * 增益均匀性 薄型THGEM增益均匀性较好，均匀性误差小于5% 铜靶X光管 二维移动平台 20×20cm2 THEGM腔室 * 高计数率THGEM性能研究（I） 电离模式测量X-ray计数率 ～1MHz/cm2 * 高计数率THGEM性能研究（II） * THGEM 质量检测 四路高压控制 + nA电流读出 THGEM的粗略判断标准 (厚度200um) ?V 600V@ Ar/iC4H10 97/3，5min内无放电 ?V 1600V@ N2 ，5min内无放电 * THGEM应用成像研究 * * * BSRF 漫散射实验站 X-ray energy：8.05keV，13.9 keV photons/s：1x1011 @ 8.05keV THGEM同步辐射X射线衍射仪 平面型气体探测器像差（Parallax error）示意图, s. d. Pinto NSS/MIC, 2009 IEEE 粉末晶体的X射线衍射线空间方位与晶体结构相关 衍射仪设计 弱电流读出板 电流范围：10 pA-900nA 采样率：1kHz 设计指标： 半径: 20cm 读出条: 320路 条宽： 0.4mm 条间距： 0.5mm 接收角度 48° 角分辨 0.2° * 衍射样品 X射线通过粉末晶体样品后，在特定的角度处产生衍射线 查表得到TiO2粉末晶体在铜靶Kα1线照射下产生衍射峰位如右图所示 其中最强衍射峰在25.355°处 * 测量结果 * 弧形THGEM探测器在同步辐射大分子实验站测量 电子学128路，弧形半径20cm，覆盖角度19.2° 探测器空间分辨率 σ=0.148±0.081° 优于设计指标0.2 ° ASIC读出成像初步研究 CARIOCA,GASTONE 数字读出前放板 CRIOCA FEE 微孔 THGEM FPGA * 表面污染监测仪 * 初步结果 * 90Se β能谱 Δv=610V 利用整版微蚀方法实现最大面积30×30cm2 THGEM 的制作，THGEM性能良好，能量分辨达到15.9%，单层增益 104，稳定性、增益均匀性等性能良好，很好地满足THGEM的应用需求。 在BSRF生物大分子站兼容模式进行Ti