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大口径平面光学元件的数控抛光技术研究
。¨太学两士学幢论主 馨793120
大口径平面光学元件的数控抛光技术研究
专业:光学
研究生:朱海波 导师:冯国英
摘 要
当今人类正面临能量短缺的危机,而惯性约束核聚变fIcF)是解决这种情
况的有效途径。在ICF高功率激光驱动系统中,所用的大口径光学元件的加工
质量是整个系统中的关键问题之一,高精度的光学元件是提高整个系统的光束
质量的前提,因此高精度、高效率的光学表面加工具有重大的经济价值。本文
系统的研究了计算机控制小磨头抛光方法对ICF驱动系统中的大口径光学元
件进行加工的理论知识以及在此理论基础上的具体工艺流程,所做的工作如
下:
1.本论文对计算机控制光学抛光的技术发展做了一定的调研,对计算机控制光
学抛光目前存在的主要问题作了总结:
2.本论文对光学玻璃抛光的机理做了研究和分析。对于目前的抛光方式,我们
认为机械作用是基本的,化学作用是重要的,而流变现象是存在的。抛光去除
实际上是这三种方式综合作用的结果。对计算机控制数控抛光的基础理论作了
分析,对材料的去除函数和数控抛光的驻留函数作了分析和推导:
3.本论文介绍了AD.i000机床的结构和控制原理和检测设备,并全面吸收和消
化,为进一步实验研究作准备;
4.在磨头悬边情况下,假设工件上的压强为线性分布的,对此种情况下不同悬
边时的压强进行了分析,得出此种假设的压强分布的悬边值不能超过抛光盘直
径的i/4,否则材料不仅不能被去除,还会得到增加。此结论对实际的加:l:过
∞川太晕确士学住诒立
程具有一定的指导作用。根据Preston方程,主要考虑抛光液浓度对方程中磨
削系数K的影响,对K进行了实验研究,得出在目前实验条件下磨削系数K
的大致范围,为计算机数控抛光模拟作了必要的准备:
5.数控软件的编制。由于设备的原始软件使用起来麻烦,不利于新手的学习和
使用,且处理的精度不高,经过综合考虑:压强、转速、抛光盘所走的路径、
抛光盘大小、偏心等参数,编制了一套模拟程序。经过实验验证,模拟结果与
实际测的结果的PV值偏差不会超过15%。而且根据具体的工件面形情况,可
以进行多次模拟并进行实际加工,再进行实际检测,这样可以减少测量次数,
降低成本,节约时间,提高效率。
通过对计算机数控抛光的研究,我们对数控加工过程的规律有了更清晰
的认识,增加了实际加工的经验,为获得高精度高效率的光学元件作了一定
的准备。但是,光学加工过程是一个复杂的过程,在加工过程中有很多影响
因素和不确定因素,要想做到高精度高效率的光学元件加工,还有待进一步
的工作和大量的实验研究。
关键词 :数控抛光,ICF驱动系统,大口径光学元件,去除函数,边缘效应
本科题得到中国工程物理研究院与国家自然基金委的联合资助
(NO。
II
∞川太晕领亡学住话支
on controlledof
Studycomputer polishing
the size
largeplaneoptical
components
Major:optics
Postgraduate:ZhuHaibo$upervisor:Feng
Guoying
Abstract
themankindis thecrisisof in is
Nowadays facing energyshort,]CFtheeffectiveof
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