大视场投影光刻物镜的研究.pdfVIP

致谢 本文的研究工作是在沈亦兵教授的悉心指导和关心下完成的。我的每一点滴 的进步，无不渗透着沈亦兵老师对我的关怀。从论文的选题、研究过程到论文撰 写等诸多方面，沈老师都给了我精心的指导，凝聚着师长对学生的关怀和期望。 沈老师广博的学识、对学科发展的战略眼光、精辟的学术见解、严谨的治学作风 和对学生的谆谆教导，都对我的成长产生了深远的影响，是我学习和工作的楷模， 更是我今后人生路上做人的楷模。在论文完成之际，我谨向我的导师致以最衷心 的感谢，感谢他在我这两年多的学习过程中对我无微不至的关怀和孜孜不倦的教 诲。 本论文能顺利完成，得力于导师的精心指导，也得力于实验室的老师鼎力相 助，在这里我要同时衷心地感谢余中恒教授，感谢他对我在学习工作上长期的帮 助和支持。 本课题是在实验室的师兄弟们的帮助下完成的。他们是马涛博士、毛祥光硕 士等，在此表示衷心的感谢。 我的家人对我的学业的巨大支持是我多年求学生涯中不断进取的强大动力， 他们对我的关怀和鼓励，使我能顺利完成学业。 高波 二零零六年一月于求是园 摘 要 光刻是大规模集成电路的制造过程中最为关键的工艺，光刻物镜是光刻的 核心，其性能直接决定了光刻的图形传递能力。大视场投影光刻物镜是目前光刻 物镜研究发展的一个方向，用来制作大面积、高分辨率的印刷板线路，其设计加 工的要求比较高。本文首先对光刻物镜的整个背景作了介绍，并且根据光刻物镜 研制中做重要的一个参量——分辨率，阐述了光刻物镜的技术发展过程和未来的 发展趋势。 论文的主要工作是大视场投影光刻物镜畸变检测方法的研究。提出了针对 大视场投影光刻物镜畸变的计算方法，并在完成的畸变特性测量装置上进行了8 英寸的硅片测量。在这个基础上，分析了光刻物镜的畸变特性，对研制完成的物 镜我们检验了其暴光分辨率和畸变特性，达到了系统设计的指标要求。 此外，论文针对研制的8英寸视场的投影光刻物镜，从光学设计要求出发， 分析了影响光学系统成像质量的各种主要误差因素。通过ZEMhX软件确定了我们 的镜头的光学设计结果。并且进一步地，通过ZEMAX模拟，确定了加工容差，并 对其加工和装校过程作了阐述。 关键词：大视场光刻物镜分辨率畸交 Abstract isthemost technicswhen of Lithography important manufacturingLarge Circuit．The lensisthecoreofthe Scale lithography Integrate determinesthe ofthe transfer 1ithography，whosecapability capability isthe field lens one directly．Thelarge projection1ithography pattern directionon and ofthe lens，which researchingdeveloping1ithography isusedfor the circ