离子径迹模板法制备纳米线 - 原子核物理评论.pdfVIP

第 23卷 第 1期 原 子 核 物 理 评 论 Vo1．23．No．1 2006年 3月 NuclearPhysicsReview Mar．，2006 文章编号：1007 4627(2006)04--0055—04 离子径迹模板法制备纳米线 姚会军 ，刘 杰 ，侯明东 ，孙友梅 ，段敬来 ，莫 丹 。 (1中国科学院近代物理研究所，甘肃 兰州 730000； 2中国科学院研究牛院．北京 100039) 摘 要：重离子辐照的高分子有机膜，经过适当的处理，可 以作为模板制备金属和可溶性盐纳米 线，此方法称为离子径迹模 法。介绍了用电化学沉积方法和过饱和溶液法制备金属纳米线和可溶 性盐纳米线的基本原理和制各实例，同时还展望了离子径迹模板法制备纳米线的一些可能的应用。 关 键 词：离子径迹模板 ；电化学沉积；纳米线；过饱和溶液 中图分类号 ：TI99；0488 文献标识码 ：A 1 引言 板也有其 自身的缺点。例如，有机膜不能承受高温， 膜厚度受到离子射程 的限制 。 目前制备与研究纳米材料已成为国际上的一个 热点课题，对于21世纪的信息、能源 、环境 、生物 2 核子L膜的制备 等领域将产生极其广泛和重要的影响¨]。作为纳米 材料的成员之一 ，纳米线因其优异 的光学、电学及 高分子有机薄膜 ，如聚酯 (PET)或聚碳酸酯 力学等特性而引起 了，广泛的关注，利用物理和化学 (PC)膜 ，经重离子辐照后，会沿着离子路径周围柱 方法组装纳米线是纳米材料研究的重要领域 】。 状 区域内形成特殊的、不可逆的化学和结构变化的 离子径迹模板法已成为近年来兴起的新 的纳米 潜径迹 。如果入射重离子在材料中单位路程上 的能 线制备方法。高分子有机薄膜在经过高能重离子辐 损超过某一阈值[5，把带有潜径迹 的高分子有机膜 照后，在薄膜中沿入射离子路径会产生直径从几 置于蚀刻液 中蚀刻，则可获得微孑L。因此 ，欲在高 分子有机膜中得到均匀的蚀刻孑L径 ，需要选择合适 nm到几十 nm 的柱状损伤区域 ，这些损伤 区域被 能量和原子序数的重离子对其进行辐照。 称作离子的潜径迹(1atenttrack)。把带有潜径迹的 在蚀刻前对有机膜进行预处理——紫外光敏 薄膜放在蚀刻液中进行蚀刻，通过选取不同的蚀刻 化，既能提高径迹蚀刻速率，还可以提高有机膜内 条件 ，会在薄膜内形成直径从十几 nm到几 x／m 的 核孑L的长径 比…。在蚀 刻过程 中，核孔膜 内孔的直 微孑L阵列，这种带有微孔阵列的薄膜被称为核孑L 径不仅跟蚀刻时问有关 ，还跟蚀刻液 的种类 、浓度 膜 ]‘。以核孔膜为模板 (离子径迹模板)，通过物 和温度有关。在蚀刻过程 中，对蚀刻液 的搅拌也很 理和化学方法 ，可 以把金属 、无机盐和半导体等材 重要 ，可以减少由于蚀刻液浓度梯度造成 的孑L径大 料填充到其中，从而形成平行排列的纳米线阵列， 小分布不均匀