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基板水特性氧化奈米影之研究白世南仲建科技大子工程研究所彰化市介北路摘要本研究探以界面活性清洗基板改善基板表面的性再以低之水程方法於氧化物玻璃基板成氧化奈米程所使用之反物硝酸及六甲基四胺混合水溶液果示清洗基板改界面活性之度可明改基板之表面性因而可以藉此控制氧化奈米之成型氧化物基板之表面特性在界面活性的作用下可生明之改以此改後之基板行低水溶液程成氧化奈米可界面活性度於有佳之水特性其成之氧化奈米比清洗度低之基板具有更密之字氧化奈米界面活性水特性前言材料小到奈米尺寸由於量子限效及其表面的比值大等因素材料

基板親水特性對製備氧化鋅奈米結構影響之研究 白世南 鄭仲凱 建國科技大學電子工程研究所 500彰化市介壽北路1號 E-Mail:snbai@ctu.edu.tw 摘要 本研究探討以界面活性劑清洗基板來改善基板表面的性質,再以低溫之水熱製程方法,於銦錫氧化物(ITO)玻璃基板成長氧化鋅(ZnO)奈米結構。製備過程所使用之反應物為硝酸鋅(Zn(NO3)2.6H2O)及六亞甲基四胺(Hexamethylenetetramine, HMTA)混合水溶液。實驗結果顯示,清洗基板時改變界面活性劑之溫度(25℃、50℃、100℃)可明顯改變基板之表面性質,因而可以藉此控制氧化鋅奈米結構之成長型態。銦錫

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