立方氮化硼薄膜的光学性质论文.pdf

周涛等：立方氮化硼薄膜的光学性质 立方氮化硼薄膜的光学性质 周 涛1，邓金祥1，陈浩1，张岩1，陈光华2，杨萍1，郝伟1，侯碧辉1 (1．北京工业大学应用数理学院，北京100022；2．北京工业大学材料学院，北京100022) 摘要： 用射频溅射两步法制备立方氮化硼(c-BN)谱，井通过计算得到样品中立方相含量为56．2％。薄膜 薄膜，由傅立叶变换红外吸收光谱计算其立方相舍量， 用紫外一可见光分光光度计测得薄膜的反射光谱R(A) 和透射光谱T(A)，进一步确定薄膜的吸收系数a随光 子能量hV变化的关系曲线，计算出薄膜的光学带隙， 分光光度计使用双光束模式．测量反射谱时，使准校准 其结果与经验公式的计算结果相吻合。 分光光度计。反射光谱狭缝宽度为5．0rim，扫描速度为 关键词： c．BN簿膜；光学带隙；吸收系数 中等。薄膜厚度用TENCOR alpha台阶仪测得．为 中图分类号：0484．1 文献标识码：A 750nm。 文章编号：1001，973l(2006)增刊．0273．03 3结果与讨论 l 引 言 图l为BN薄膜的紫外一可见光范围内的透射光 立方氮化硼(c．BN)是IⅡ一V族闪锌矿结构化台物，谱T(^)。从图中我们可以看出，透过率在波长从 具有优异的物理化学性质，如高硬度(仅次于金刚石)、 宽带隙(禁带宽度64eV)…、高热导率、高热稳定性 到200nm处的0％，可以认为是本征吸收的开始。而样 和化学稳定性。其在机械加工、微电子学、光学保护涂 品对波长大于800nm的光波的透过率维持在90％。由 层领域具有广阔的应用前景。近年来，人们在c-BN领图确定此BN薄膜样品的光学吸收边所对应的波长在 域的研究主要集|_卜在薄膜的制各方面，主要的制各方法 250nm左右，由此可以粗略估算山样品的光学带隙大约 有：射频溅射、离子束辅助沉积、电子回旋共振(ECR)为5eV。 CVD等。随着c-BN薄膜制各技术的成熟，有关e-BN 薄膜光学性质的研究也取得了一些进展。我们小组采用 射频溅射两步法在石英片上生长BN薄膜，并通过公式 从薄膜的反射光谱R(^)和透射光谱T(^)计算出了BN 薄膜的吸收系数和光学带隙。 2实验 使用传统的13．56MHz射频溅射系统用两步法在 W乱恤ngm『兀m 石英衬底上制备c．BN薄膜，靶材为纯度达99．99％的六图1沉积在石英衬底上的BN薄膜的透射光谱T(^) ofthe film 角氮化硼(h．BN)烧结靶。溅射之前依次对村底进行 1Transmission BNthin deposited Fig spectra 甲醇、丙酮、乙醇超声波清洗，期问用去离子水冲洗。 onthefusedsilica 预真空为1．33×10一Pa，沉积之前先对衬底进行预溅射， 在圈2反射光谱尺(』)中可以观察到比较明显的干 目的是进一步清洗和活化衬底表面。溅射气体在成核阶 段和成膜阶段分别为氩气、氯气和氮气的混合气体。两 近波动。 步法有利于降低薄膜内部应力，提高薄膜与衬底问的粘 Weimantell3】等人的高分辨透射电子显微术 附性f”。 沉积在熔融石英片上的BN薄膜是非晶的．而沉积在si 为了确定薄膜的立方相含量，用WQF．310型傅立 叶变换红外光谱仪对样品进行测量，得到其红外吸收 片上的BN薄膜大多是多晶的。而BN为紧束缚材料， }基金项目：国家自然科学基金资助项目 收到稿件Et期：2006—06-Og通讯作者：邓金样 作者简介：周 涛(1979--)，男