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等离子显示器障壁结构及制作工艺的进展
The ofCellStructureFabricationProcess
Developments and
ofPDPBarrierR沁
牟新强潘建华
Mu Pan
Xin咖ngJianhua
上海松下等离子显示器有限公司
Plasma PanelCo．Ltd．
Matsushita
Shanghai Display
摘要：本文总述近年来PDP中障壁结构单元的技术进展。重点讨论了各种单元结构(传统的条状结构、先锋公
司的华夫结构、松下公司的不等宽结构、富士通日立公司的DelTA结构)，以及障壁印刷法、喷砂法、填充法、感光性
浆料法的制作工艺过程及新技术的发展。
一
、
关键词：PDP(等离子体显示器)障壁单元嫱构制作工艺技术发展
Abstract：Thelatest ofcellstructureinrecentwerereviewed．Thewasfocusedontheef-
developments years topic
fectsofthenewcell various
ceU)．Meanwhile，the
structures(conventionalstrips，Waffle，DelTA，asymmetric manufacturing
andnewtechnical havebeen forthebarrierribcell．Whichinclude
process developmentexplored printing，sandblasting，
method．
photo-additive。andphotolightprocess
words：PlasmaPanelBarrierRibCellStructure PIo∞髓Technical
Key Display Manufacturing Develolpment
一、前言
在等离子显示屏的制造过程中，障壁的制作是整个等离子屏制造的关键。纵观PDP单元结构的变化，最
突出的变化就是障壁结构的变化。目前各种等离子屏性能的不同，也突出的表现在障壁所形成的结构单元
的不同。障壁各种单元结构有传统的条状结构、先锋公司的华夫结构、富士通日立公司的DdTA结构、松下
公司的不等宽结构等。
彩色PDP器件中的障壁不仅起到分隔放电单元的作用，而且起到防止相邻放电单元之间的光串扰和电
串扰的作用。障壁的制作又属精细加工技术，障鼙制作的精度决定了器件所能达到的结构分辨率的高低。因
此，高精细障壁制作是器件实现高亮度、大存储范围、高显示容量的一大关键工艺技术。
目前制作障壁的工艺方法主要有：丝网印刷法、喷砂法、填充法、印压成形法以及感光性浆料法等五种
基本的方法，这几种方法各有优缺点。其中丝网印刷法、喷砂法以及感光性浆料法已被成功地运
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