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PLM-180 光掩膜行宽测量系统
光掩膜行寬測量系統
(PLM-180)
1.主要規格
① 高解析度 i-line 顯微鏡單元 × 100 (NA=0.95)
② 高精準度中空的工作台單元
X,Y 軸平台with 雷射干擾計定位器
Z 軸(垂直移動) 平台
③ 重複性 3σ≦10nm (Target spec. 5nm)
( × 100 Measurement at the center
of the camera detection area)
④ 工作台定位精度
3σ≦100nm (Target spec. 50nm)
⑤ 測量行寬
0.5 ~500μm
0.5 ~30μm(工作台不移動時)
30 ~500μm(工作台移動時)
自動測量解決方案
2
2.系統結構1
Mask 加載單元
干涉計 光掩膜
Mask 儲料器
(tentative)
主體(w/o 空氣調節單元) 主體(with Mask 儲料器)
顯微鏡
×100 ( I line) 主體
Mask 加載單元
發射照明
從右前方看
剖視圖
3
2.系統結構2
用來作測量的顯微鏡 光掩膜
(Image contrast AF)
臺座
條狀反射鏡
用來做工件的預先調準的顯微
鏡
發射照明
自動根據mask的厚度垂直
運行
Z軸平台
XY軸平台
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