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天文学用可形大屋真国立天文台所光学装置形状可形用次世代向光学装置形状可形光学装置光波面歪正回折限界像取得天文学眼科医用盛膜海王星形状可最使磁歪磁石天文用一般的次方式透型液晶位相板透率偏光特性形特赤外波背景音液体安定性代表例用大大素子隔素子小素子隔素子重重特程度格形量大小色期待目赤色既存一式二段式分割三脚式基本原理静力引械的力各方式比注意用各素子高方向位重要用各素子不十分一式二段式分割三脚式仕在最注目素子数素子数素子数中心小不十分多分行大既到面不安定多素子不向湿度弱分割面性能劣化振弱次世代向背景口
天文学用MEMS可変形鏡の開発 大屋 真 (国立天文台ハワイ観測所) アウトライン 補償光学装置(AO)と形状可変形鏡(DM) AO用MEMS-DM 次世代MEMS-DM開発に向けて 補償光学装置と形状可変形鏡 補償光学装置とは 光波面の歪みをリアルタイムで 補正して回折限界像を取得 天文学と眼科医療で応用が盛ん w/o AO w/ AO 網膜 海王星 w/ AO w/o AO w/ AO w/o AO 形状可変鏡 (Deformable Mirror; DM) ピエゾ (最もよく使われている) 磁歪 電磁石 天文用では一般的ではないが、次の様な方式もある 透過型: 液晶位相板 透過率や偏光特性が問題 熱変形 特に赤外波長では背景雑音になる 液体 安定性? ピエゾDMの代表例 積層アクチュエータ バイモルフ AO用MEMS-DM なぜMEMS-DM? ピエゾ MEMS 大きさ 大きい 素子間隔: 5 mm (64x64素子: 300mm□) 小さい 素子間隔: 1 mm (64x64素子: 60mm□) 重さ 重い (特に積層アクチュエータ) 50kg 軽い (CPUチップ程度) 100g 価格 $1,000 / actuator $100 / actuator ヒステリシス 5% 0.1% ストローク (変形量) 大きい 10 mm 小さい 10 mm 緑色:MEMS-DMに期待される項目 赤色:MEMS-DMに対する課題 既存のMEMS-DM 単一メンブレン式 二段メンブレン式 分割三脚式 OKO Boston Micromachines Iris AO 基本原理は、静電力で「引き」、機械的バネ(張力)で「戻り」 各方式の比較 注意:AO用では各素子の高さ方向の変位が重要。 DLP用DMDの様に各素子の傾きが変わるだけでは不十分 単一メンブレン式 二段メンブレン式 分割三脚式 仕組みが簡単 現在、最も注目されている あまりやられていない 素子数100 素子数4096 素子数100 中心ストロークは10mm エッジでは小さい。 ストローク不十分 (多分10mmは行かない) ストロークが大きい (既に10mmに到達) 面が不安定。 多素子には不向き? 湿度に弱い。 分割による鏡面としての 性能の劣化? 振動に弱い? 次世代MEMS-DMの開発に向けて 背景 口径30mの超大型望遠鏡を建設予定 TMT: Thirty Meter Telescope 現在の世界の主力は口径10m級(すばる望遠鏡は8m) 素子数、ストロークを増やす必要あり 観測時間が貴重?多天体化?安価?簡素 多様化 観測目的ごとに異なったAO方式が必要 各AO方式ごとに違う要素技術(DM)が必要 TMT-AOに必要な仕様 素子数: N ∝ (D/r0)2 Subaru AO188と同等の性能が必要なら 188×(30/8)2~2600 1000素子以上は必須 波面誤差: σ ∝ (D/r0)5/6 3σで評価(±3σ、鏡で半分)、TT補正済 0.6@0.5μm; 天頂 Subaru: 2.2[μm]、TMT: 6.5[μm] 1.2@0.5μm; EL=30°Subaru: 5.5[μm]、TMT: 16.4[μm] AO方式の多様化 レンズ (従来型AO) 顕微鏡 広視野カメラ ExAO (Extreme AO) MOAO (Multi-Object AO) これまでのMEMS-DMは、 主にExAO用に作られてきた。MOAO用では仕様が異なる。 究極の波面補償性能による高コントラストイメージ - 超多素子 - 高速動作 - 高い鏡面精度 明るい星近傍の惑星 暗い遠方銀河を複数同時 トモグラフィック3D波面推定と オープンループ制御 繰り返し精度 鏡面の安定性 高反射率 多ユニット 簡素?安価 … … MEMS-DMの仕様(案) 既存のMEMS-DM、すばる望遠鏡のDMの仕様を基にTMT-MOAO用にアレンジ Element count 1024 = 32x32 (goal: 4096 = 64x64) Pitch 300 ~ 1,000 mm Aperture size 10~ 30mm (goal: 20~ 60mm) Fill factor 98% Actuator yield 99% Stroke (overall) 20 mm Stroke (at highest spatial freq.) 4 mm Surface roughness (RMS) 20nm (goal: 10nm) Flatness (controlled; RMS) 20 nm Ban
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