LIGA技术高深宽比分析.pdfVIP

摘要 摘要 本文着眼于LIGA技术高深宽比方面的研究，以提高本实验室用LIGA技术 制作微细结构的深宽比为目的，从分析各因素影响深宽比的机理出发，再加以理 论设计和实验工艺的优化和改善，分别研究讨论了影响深宽比的几大重要因素： 掩模结构和性能、光源光谱和光强、mod^光刻胶性能、电铸工艺参数等。 文中结合本实验室改换LIGA光源的工程，比较分析了3Bl束线和3W1束 线的能谱差异，针对3Bl束线的特点，通过运用XOP、origin两个软件设计出 多、光强和功率密度太高的特点，提出了用Ni吸收膜改善光谱和用x光暂波器 法优化光强的方法，同时严格控制和改善PMMA光刻胶的性能，经过反复的计 算分析和实验改进后，获得了深宽比高达100的胶结构图形。此外，鉴于电铸时 易出现影响高深宽比结构制作的气孔、内应力、厚度不均等问题，相应地采取了 控制PH值、进行电解处理、添加活性剂、使用第二阴极，及改善电铸电源等方 法来进行调整和控制，取得了金属结构深宽比高达30的结果。最后，我们利用 uGA技术加工的独特优点，以发展其高深宽比技术的实际应用，先后制作了狭 缝阵列镍结构微推进器关键部件、薄壁网状多孔镍结构正电子慢化体、微型铜结 构换热气和多种材料不同、尺寸各异的过滤介质，还结合利用u(遗技术和微细 电火花技术的加工优点，制作出了不锈钢微结构。 关键词LIGA技术；高深宽比；掩模；光谱；PMMA；电铸 Abstract this ratioofUGA In thesis，to process，seV∞a1important increase也e∞pect thesmlctureand of factorswere includes innuence discussed，which perfonnance of LIGA characterjstic b锄1i11es，t11e specn砌of m酆k，X’rayimensj够andX—Iay resillandnlemicro PMMA electroformingpa船meters． were XOPand theAu．Sirrla晖k nleAu-PImask跹d by Origin desigrled a11d381be锄1illehad the of3W1 di丘醯encebetween the specm】m soft、Ⅳare，after becn someme血0ds tlle spec仇Iln iIlcludir