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三离子束切割仪解剖玻璃光纤
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天美(中国)科学仪器有限公司
TECHCOMP (CHINA) LTD.
中国北京朝阳区天畅园7 号楼1、3 层
TEL:010
FAX:010
E-MAIL:techcomp@techcomp.cn
三离子束切割仪解剖玻璃光纤
实验中光纤样品没有安装纤芯,纯玻璃材质,圆柱形中空结构,
外径大约350 微米,内径大约50 微米。样品提供者想用扫描电镜观
察玻璃光纤的中空位置,将样品制备成具有平整观察区域的横截面和
纵截面。如外力掰断玻璃光纤,截面凹凸不平边缘破损,无法有效观
察。对这类玻璃光纤剖面样品,机械切割磨抛方式很难保证切割面的
平整,也无法避免样品剖面的污染和边缘损伤;如果采用聚焦离子束
FIB 加工,应对几百微米的加工区域,将耗费大量时间和带来极高的
使用成本。因此,氩离子束切割仪几乎成为高效率、低成本的获取无
应力损伤和无污染的平整剖面的唯一的选择。
图1. 光学纤维的结构
使用徕卡EM TIC 3X 进行离子束切割是一项适用于切割硬的,软
的,多孔的,热敏感的,脆的和/或非均质多相复合型材料,获得高
质量切割截面,以适宜于扫描电子显微镜(SEM )微区分析(能谱分
析EDS,波谱分析WDS,俄歇分析Auger ,背散射电子衍射分析EBSD)
和原子力显微镜(AFM )分析。这一技术几乎是唯一一个适用于任何
材质样品,获得高质量切割截面的解决方法。使用该技术对样品进行
处理,样品受到形变或损伤的可能性最低,可暴露出样品内部真实的
结构信息。徕卡EM TIC 3X 在技术上超越了传统的离子束抛光切割设
备。它使用三离子束,并可装配冷冻样品台和三样品台,可以高速率
离子束轰击样品,得到宽且深的切割区域,获得一个高质量的平整的
切割截面,几乎适用于任何材料,整个样品处理过程快速简便。如图
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2 所示,三离子束部件垂直于样品侧表面,因此在进行离子束轰击时
样品(固定在样品托上)不需要做摆动运动以减少投影/遮挡效应,
这又保证有效的热传导,减少样品在处理过程中受热变形。三离子束
汇聚于挡板边缘的中点,形成一个100°轰击扇面,切向暴露于挡板
上方的样品(样品上端高出挡板约 20-100 μm),直到轰击到达样品
内部目标区域。新型设计的离子枪可产生的离子束研磨速率达到150
μm/h (Si10 kV,3.0 mA ,50 μm 切割高度)。徕卡独特的三离子束系
统,可获得优异的高质量切割截面,并且速率高,切割面宽且深,这
可大大节约工作时间。通过这一独特技术可获得高质量切割截面,区
域尺寸可达4 ×1mm 在使用时,每一把离子枪可以单独控制和开关。
这便于操作者根据应用需要设置不同的离子枪参数,如做衬度增强作
用(离子束刻蚀)或温和地离子束轰击。
图2.徕卡EM TIC 3X 三离子束设计与控制
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现在,样品中越来越小的细节结构正逐步受到人们的关注。而通
过切割获得截面,如获得很小的 TSVia 孔结构,已经变得轻而易举。
所有样品台都设计达到±2 μm 的样品位置校准精度。不仅样品台的
控制精度可以实现如此精确的目标定位校准工作,观察系统也可观察
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