软性粒子抛光石英玻璃材料去除机理.pdfVIP

第 24卷 第 7期 光学 精密工程 V01．24 No．7 2016年 7月 OpticsandPrecisionEngineering July．2016 文章编号 1004—924X(2016)07—1623—09 软性粒子抛光石英玻璃的材料去除机理 刘德福 ，陈 涛 。，陈广林 ，胡 庆 (1．中南大学机电工程学院，湖南长沙410083； 2．中南大学高性能复杂制造国家重点试验室，湖南长沙410083) 摘要 ：基于阿伦尼乌斯原理和分子振动理论 ，分析了软性抛光粒子、石英玻璃和抛光垫之间的弹性与超弹性接触 ，研究了 用软性粒子抛光石英玻璃 的材料去除机理 。基于理论研究进行 了大量 的抛光试验 ，建立 了软性粒子抛光石英玻璃的材 料去除率模型。理论计算与试验结果表明：在石英玻璃化学机械抛光 中，材料 的去除主要 由抛光粒子与石英玻璃的界面 摩擦化学腐蚀作用来实现；单个抛光粒子压人石英玻璃的深度约为 0．05nm，且材料去除为分子量级 ；石英玻璃表层的 分子更易获得足够振动能量而发生化学反应实现材料的去除；抛光压力、抛光液 中化学试剂种类和浓度 以及石英玻璃试 件与抛光盘 的相对运动速度决定了软性粒子抛光石英玻璃 的材料去除率大小。 关 键 词 ：石英玻璃 ；化学机械抛光 ；软性抛光粒子 ；材料去除机理 ；去除速率模型 中图分类号 ：TQ171．731；TQ171．684 文献标识码 ：A doi：10．3788／OPE1623 M aterialremoval mechanism forfused assbyusingsoftparticles LIU De—fu，弘 ，CHEN Tao ，CHEN Guang—lin ，HU Qing (1．CollegeofMechanicandElectricalEngineering，CentralSouthUniversity，Changsha410083，China； 2．StateKeyLaboratoryofHighPerformanceComplexManufacturing， CentralSouthUniversity，Changsha410083，China) *C0r]rPs0 gauthor，E-mail：liudefu@CUS．edu．cn Abstract：On thebasisofArrheniustheory andmolecular vibration theory，theelasticandhyper elasticcontactamongthesoftpolishingparticles，fusedglassandthepolishingpadwasanalyzed，then thematerialremovalmechanism offusedglassusing softparticlesinpolishingprocesswasexplored． Accordingtothetheoreticalresearchmentionedabove，alotsofpolishingexperimentswerecarried outand amaterialremovalratemodelwasestablished． Theoreticalcalculation and experimental resultsshow thatthematerialiSmainly removed by the interfacialtribo—chemica1effectbetween polishingparticlesand fused glassin chemicalmechanicalpolishing．Thedepth ofa singleparticle embeddingintothefusedglassis0．05nm andthematerialremovedbyasingleparticleisamolecular scale．Thesuperficia