硼掺杂四面体非晶碳薄膜的光学特性研究_桂全宏.pdfVIP

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2017-07-17 发布于河北
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硼掺杂四面体非晶碳薄膜的光学特性研究_桂全宏

第卷第期化工新型材料４１５Ｖｏｌ．４１Ｎｏ．５　　　　　年月 · · ２０１３５ＮＥＷＣＨＥＭＩＣＡＬＭＡＴＥＲＩＡＬＳ１０９　　硼掺杂四面体非晶碳薄膜的光学特性研究，１２２２２３２２桂全宏骆琳＊汪桂根张化宇韩杰才李厚训严帅　　　　　　　　（，；，深圳市沃尔核材股份有限公司深圳哈尔滨工业大学深圳研究生院１．５１８０５５２．；，）深圳哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所哈尔滨５１８０５５３．１５００１８摘要采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同硼含量的掺杂四面体非晶碳薄膜（：）。使用椭偏仪和紫外可ｔａＣＢ　　－－、、。，，，见光分度计测试了薄膜的折射率消光系数透过率和反射率结果表明硼含量小于２．１３％时硼含量增加薄膜折射；。，，率缓慢增大消光系数基本保持不变当硼含量继续增加到和时折射率分别迅速增加至和相３．５１％６．０４％２．６５２．７１；，。应的消光系数增大至和而薄膜的光学带隙从缓慢减小至后又迅速降至同时０．０９２０．１５４２．２９ｅＶ１．９７ｅＶ