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标准CMOS工艺载流子注入型三端Si-LED的设计与研制 - 发光学报
第33卷 第4期 发 光 学 报 Vol33 No4
2012年4月 CHINESEJOURNALOFLUMINESCENCE Apr.,2012
文章编号:10007032(2012)04044405
标准 CMOS工艺载流子注入型三端 SiLED的设计与研制
1 1 1,2 1 1 1 2
韩 磊 ,张世林 ,郭维廉 ,毛陆虹 ,谢 生 ,张兴杰 ,谷 晓
(1.天津大学 电子信息工程学院,天津 300072;
2.天津工业大学 信息与通信工程学院,天津 300161)
摘要:采用无锡华润上华(CSMC)0.5 m标准CMOS工艺,设计并制备了一种新型的高发光功率载流子注
μ
+ +
入型三端SiLED器件。该器件在p型衬底上进行n掺杂,与p衬底形成两个相对的np结,其中一个结正
向偏置,发出峰值波长在1100nm附近的红外光;另一个结同样正偏,作为注入结对发光进行调制。测试结
果显示:第三端注入载流子明显增强了总体的发光功率,在10mA偏置电流、3V调制电压下,可获得1nW的
光功率,与单结相比提高了两个数量级。由于工作电压低,该器件可与目前主流的CMOS工艺共电源单芯片
集成,在光电集成领域具有一定的应用前景。
关 键 词:硅基LED;标准CMOS;发光器件;正向注入发光;光电集成
中图分类号:TN383 文献标识码:A DOI:10.3788/fgx0444
DesignandFabricationofThreeterminalCarrierinjectiontype
SiLEDwithStandardCMOSTechnology
1 1 1,2
HANLei,ZHANGShilin ,GUOWeilian ,
1 1 1 2
MAOLuhong,XIESheng,ZHANGXingjie,GUXiao
(1.SchoolofElectronic&InformationEngineering,TianjinUniversity,Tianjin300072,China;
2.Information&CommunicationInst.,TianjinPolytechnicUniversity,Tianjin300161,China)
CorrespondingAuthor,Email:zsl@tju.edu.cn
Abstract:Thispaperdemonstratesanovelcarrierinjectiontypesiliconbasedlightemittingdevice
(LED)withthreeterminalsandhighlightemissionintensity.Thedevicewasdesignedandfabrica
tedinthecommercialstandard0.5μmCMOSprocessofferedbyCentralSemiconductorManufactur
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