改变世界的纳米技术 - 微系统暨奈米科技协会.docVIP

改变世界的纳米技术 - 微系统暨奈米科技协会.doc

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改变世界的纳米技术 - 微系统暨奈米科技协会

〈黃德歡〉【改變世界的奈米技術】 第三章★更小/更快/更冷的奈米電子學 〈黃德歡〉【改變世界的奈米技術】〔(美國)瀛舟出版社﹕先智系列〕工研院圖書H032413 (620.54424)。 目錄﹕ 〈黃德歡〉【改變世界的奈米技術】 1 第三章★更小/更快/更冷的奈米電子學 1 (A) 目錄﹕ 1 (B) 奈米電子學的未來發展方向 2 (1) 將現有的積體電路進一步向微小化延伸 2 (2) 利用奈米結構的量子效應而構成的全新量子結構體系 2 (C) 微電子學技術的巨大成就 3 (1) 2000年度諾貝爾物理獎 3 (2) 積體電路﹕小規模→中規模→大規模→超大規模 3 (3) Intel (Intel)公司 4 (D) 微電子學技術的發展-蝕刻技術 4 (1) Deep Ultraviolet (深紫外光) 蝕刻技術 4 (2) Extreme Uitraviolet (超紫外光) 蝕刻技術 4 (3) EB (電子束)蝕刻技術 5 (4) 常用的晶片蝕刻方法技術﹕參數對照表 5 表3-1﹕常用晶片蝕刻方法的技術參數對照表 5 (5) SPM奈米加工技術 5 (E) 微電子學技術的問題 5 (1) 半導體單晶矽材料的純度的問題 5 (2) 電子的量子隧道效應 5 (3) 以銅代鋁技術以連接電晶體 6 (F) 微電子學技術的限制 6 (1) 元件內電子行為的限制 6 (2) 元件耗能過大的限制 6 (3) SOI (Silicon on Insulator) 技術﹕也無法根本解決耗能問題﹗ 6 (4) 以銅線代替鋁線的連接技術﹕開關速度達每秒1萬億次﹗ 6 (5) 奈米電子元件﹕才能真正滿足「更小、更快、更冷」的要求﹗ 7 (G) 奈米電子元件的開發 7 (1) 奈米電子元件 7 (2) 庫侖堵塞效應 7 (3) 單電子電晶體-(1)理論 7 (4) 單電子電晶體元件-(2)實務…各方的預測與發展 8 (5) 小結﹕其它奈米電子元件 8 (H) 奈米電子學的其它進展 8 (1) 美國耶魯大學-有機分子的導電性測量 8 (2) 美國耶魯大學-單一分子儲存記憶體 8 (I) 超高速計算機 9 (1) 從基本原理上尋找計算機發展的突破點 9 (2) 超導計算機…約瑟夫遜-超導隧道效應原理 9 (3) 分子計算機…體積劇小、耗能劇減、造價奇低 10 (4) 光子計算機…平行處理、光學開關每秒10億次 11 (5) 量子計算機…多現實態的原子、2000年世界十大科技新聞 11 (J) 結語﹕量子/奈米計算機…20年後出現時﹖ 11 奈米電子學的未來發展方向 早在1959年著名物理學家費曼曾對未來的物理學作了一個精彩的預言﹕當人類能在原子尺寸上進行操縱時將得到其有大量獨特性質的物質﹐能夠做出許多與現在不同的事情﹔如果能夠在原子和分子水平上製造材料和元件就會有許多令人激動的嶄新發現。 費曼當年的預言就充滿了對奈米電子元件到來的美好憧憬﹗身為奈米技術中最重要一個分支領域的奈米電子學(Nano-electronics) 技術是微電子學技術向縱深發展的直接結果﹐尤其是因為在資訊社會中電子學的應用顯得越來越重要﹐資訊的獲取、放大、儲存、處理、傳輸、轉換、顯示…等任何一樣都離不開電子學…電子學技術早已經成為人類經濟的命脈。 電子學未來的發展將以更小/更快/更冷為目標﹕「更小」是指進一步提高晶片的集積度﹐「更快」是實現更高的資訊運算和處理速度﹐而 「更冷」則是進一步降低晶片的耗能﹔只有在這三方面都得到同步的發展時電子學技術才能獲得新的重大突破。 不久前美國國防高等技術研究署 (DARPA)提出的Uitra-Electronics (超電子學)研發計劃就是根據「更小﹐更快﹐更冷」的發展目標﹐要求未來的電子元件要比現有的微電子元件的儲存密度高5~100倍﹐速度快10~100倍﹐而耗能則要小於現有元件耗能的2%﹔最終希望達到「雙十二」…即1012位的記憶體容量 (1Terabit)和每秒1012次的運算器速度 (1000億次/秒)且廉價而節能。 要實現這一目標則電子元件的尺寸將必然進入奈米技術的尺度範圍﹐這顯示隨著人類對晶片的要求越來越高﹐在不久的將來微電子元件必將要過渡到奈米電子元件而使其成為21世紀資訊時代的核心。 實現奈米電子元件及其積體電路的方式有兩種可能﹕ 將現有的積體電路進一步向微小化延伸 一種是將現有的積體電路進一步向微小化延伸﹐研究開發更小的最小線寬加工技術來加工尺寸更小的電子元件﹕這種方法只是尺度上的縮小﹐電子元件的構造並不發生根本的改變。 由於現行的微電子元件 (例如﹕FET (FieId-Effect Transistor) (場效應電晶體)…等)耗能較大而無法滿足未來對元件「更冷」的要求﹐而且目前的光刻技術能夠加工的最小線寬(100nm)也

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