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氢化锆表面电镀铬制备氢渗透阻挡层的研究
第 20 卷第 3 期 材 料 开 发 与 应 用 ·25 ·
( )
文章编号 2005
氢化锆表面电镀铬制备氢渗透阻挡层的研究
秦丽娟 ,赵 平
(西华大学 ,四川 成都 610039)
( )
摘 要 :研究了在氢化锆 H/ Zr 原子比为 l . 801 表面通过电镀铬制备氢渗透阻挡层的工艺 。结果显示 ,基体表
面经过适当氧化处理后电镀所得铬镀层与基体的结合强度和阻氢性能都有一定的提高 ;随着电流密度的升高 ,
氢渗透阻挡层孔隙、显微裂纹明显增多 ;反之 ,氢渗透阻挡层连续致密 。
关键词 :氢化锆 ; 电镀铬 ;氢渗透阻挡层
中图分类号 :TQ153 . 1+ 1 文献标识码 :A
(
氢化锆具有密度较小 、氢含量高 H/ Zr 原子 表 1 电镀工艺参数
) 电流密度
比可达 l . 80 以上 、中子截获面低和导热性 良好 试样 电镀时间
预处理 - 2
编号 / A ·dm / min
等优点 ,可作为反应堆的中子慢化或屏蔽材料 , 国
1 氧化 7 60
外已将氢化锆在重量轻 、体积小的反应堆及液态
2 活化 7 60
金属冷却的热中子反应堆中付诸应用[ 1 ,2 ] 。但氢 3 氧化 7 150
( )
化锆作为中子慢化剂在工作温度下 650～750 ℃ 4 氧化 14 60
会析出氢 ,从而会使中子慢化能力减弱 , 因此阻止 5 氧化 7 240
或减缓氢化锆在工作温度范围内氢的析出是亟须 镀前为避免尖端放电现象的发生 ,试样尖角
解决的问题之一 。 棱边均应磨圆。镀后使用金相显微镜在带刻度的
( )
铬是极易钝化的金属 ,遇氧时表面易生成一 镜头下测量镀层厚度 ;热震法 400 ℃,10h 检验镀
(
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