活性染料防拔染印花工艺.pdf

印 染(2008No.习 www.cd白.。‘m.c口 .活性染料防拔染印花工艺 胡平藩 (上海纷织品进出口套司，上海200086) 摘 要:利用某些活性染料与乙烯矾活性染料的耐Na2SO，及其衍生物的差异，以达到活性防染活性的目 的。通过筛选部分耐Na,SO，的活性染料，发现一氯均三嗦类活性染料效果较好;推荐以ResistolHWS替代 Na,跳 时适用的方印活性染料品种，介绍了以RemawlSaltFD为碱剂的罩印工艺，以及日本专用拔染剂 EmvateaDK-TN和助拔剂的性能及其工艺;给出了抑制乙烯矾活性染料“失风”的几种措施。 关键词:防染印花;拔染印花;活性染料;助剂 中图分类号:TS194.45 文献标识码:B 文章编号:1000-4017(2008)05-0020-04 Resistordischargeprintingprocesswithreactivedyestuffs HUPing-fan (ShanghaiTextileImportExportCo..Ltd..Shanghai200086,China) Abstract:Owingtodifferentresistancetosodiumsulfateanditsderivationsofsomereactivedyestuffsandvinylsulfonereac- tivedyestuffs,reactivedischargeorresistprintingprocessiscarriedout.Suitablereactivedyestuffsarescreened,itisfound thatmonochloro-s-triazinedyeshavegoodresistancetosodiumsulfite.Becausesodiumsulfiteisnotstable,varioussubsti- tutesinmarketarerecommended,suchasresistprintingwithResistolHWStoreplacesodiumsulfite,overprintingwithRem- azolSaltFDasalkalineagent,aswellasdischargeagentEmvatexDK-TNanddischargepromoter.Measurestopreventdeacti- vationofvinylsulfonereactivedyestuffsareputforward. Keywords:resistprinting;dischargeprinting;reactivedyes;assistant 1 乙烯矾型活性染料防染机理 2 部分乙烯矾型活性染料防染试验 1957年，德国赫司特(HoechsO公司开发了含有轻 根据上述防染机理，笔者在原上海第三印染厂工 乙基矾硫酸醋基团的雷马素(Remazol)活性染料。该 作期间，曾与上海染料研究所合作，以硫酸钠为防染白 类型染料在碱剂作用下可先脱去硫酸醋，形成乙烯讽 浆(内含Na2SO,25g/kg)，对部分乙烯矾型(KN 型)活 基，然后与纤维进行反应，生成醚键结合。 性染料进行防染(白)试验。其中，乙烯讽型活性染料 在染色体系中，防染剂亚硫酸钠(Nat