离子溅射镀膜仪K550X.PDFVIP

离子溅射镀膜仪 K550X 生产厂家：Quorum Technologies Ltd. （英国） 金颗粒尺寸：2 nm 工作腔室：硼硅酸盐玻璃，直径165mm(6英寸) x高125mm 样品台：可旋转、倾斜 真空范围：ATM-1x10-2 mbar 标配金靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚 溅射电流：0-50mA 沉积速率：0-25nm/分溅射 用途： 扫描电子显微镜的非导电样品镀金属导电膜，样品镀以金属膜后，不仅可以 防止充电、放电效应，还可以减少电子束对样品的损伤作用，增加二次电子的产 生率，获得良好的图象。也可用于需要镀金膜的操作。 工作原理： 在低真空(0.1～0.01 乇)状态下，在阳极与阴极两个电极之间加上几百至上千 伏的直流电压时，电极之间会产生辉光放电。在放电的过程中，气体分子被电离 成带正电的阳离子和带负电的电子，并在电场的作用下，阳离子被加速跑向阴极， 而电子被加速跑向阳极。如果阴极用金属作为电极(常称靶极) ，那么在阳离子冲 击其表面时，就会将其表面的金属粒子打出，这种现象称为溅射。此时被溅射的 金属粒子是中性，即不受电场的作用，而靠重力作用下落。如果将样品置于下面， 被溅射的金属粒子就会落到样品表面，形成一层金属膜，用这种方法给样品表面 镀膜，称为离子溅射镀膜法。 特点： 1. 低电压冷溅射 2. 全自动操作，可控制独立的真空泵 3. 可预设沉积厚度，均匀厚度沉积，全自动控制，膜厚度重复性好 仪器示图：