高功率激光装置中的气载分子污染物测量和分析.pdfVIP

第21卷第8期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．21。NO．8 2009年8月 HIGHPOWERLASERANDPARTICLEBEAMS Aug．，2009 文章编号：1001—4322(2009)08-1153-04 高功率激光装置中的气载分子污染物测量和分析+ 余 颖1， 赵 峰2， 李文博2， 张 林3， 袁晓东3 (1．四川大学建筑与环境学院。成都610065；2．金开利环境工程有限公司，广东深圳518109； 3．中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川绵阳621900) 摘 要： 研究了高功率激光装置光路中的分子级污染程度。采用专用空气采样动力设备及吸附管，在一 定时间内对光路中的空气进行采样并作痕量分析后，得出了卤素、含硫化合物、可溶性胺类和氨、碳氢化合物 (c。～c。。有机物)4类物质在打靶前后的数密度变化。结果显示：除含硫化合物外，其余3种物质数密度超过 了美国NIF标准的上限，其中氨和可溶性胺类、碳氢化合物的数密度超过较多；卤素、含硫化合物、氨和可溶性 胺类的数密度在打靶后比打靶前有所降低，而碳氢化合物的数密度在打靶后比打靶前有所升高。结果表明在 该装置中存在比较严重的气载分子污染物污染。分析了气载分子污染物数密度变化的原因以及可能的产生 源，并对如何去除这些气载分子污染物提出了建议。 关键词： 高功率激光装置； 光学元件损伤f 分子级污染物；痕量分析 中图分类号：X502 文献标志码：A 高功率激光装置中包括了400多个大口径光学元件，除了部分安装在密封的真空箱体内，大部分透射和反 射镜以及承载这些光学元件的金属框架都曝露在空气中。尽管所有光学元件是在百级(粒径大于或等于0．5 530 tLm粒子的最大数密度为3 000 数密度为353 m_3)的环境中运行，但一直存在着激光打靶后尘埃粒子突然增加到10万级(粒径大于或等 300000 于0．5tLm粒子的最大数密度限值为35 m_3)或者更高的现象，打靶结束后尘埃粒子很快消失。长时 间运行后，发现玻璃表面出现不可挥发性的物质。研究表明[1]：激光装置内的密封材料、钕玻璃片包边的粘接 材料以及片腔内其它材料在高强度氙灯辐照下会产生热解作用，形成大量的弘m级悬浮粒子(气溶胶)。悬浮 粒子的直径为亚弘ITI到肛m量级，在缓慢的沉降过程中容易凝结在元件表面，造成元件表面污染，随后在强光 作用下可导致片表面损伤。这种“m量级的污染可以通过高效过滤装置以及高纯氮气的吹洗来实现去除和稀 子级污染物(AMC)，并已经对整个装置构成危害，其尺寸比尘埃粒子要小得多，对整个激光装置的影响大致是 损坏透镜H巧1及影响化学减反膜的透射率¨]。 本文针对激光原型装置运行中出现的污染现象进行测试，了解装置光路中AMC的情况，分析光路空气中 AMC的主要种类和数密度，找出了AMC的产生源，尽可能降低其带来的危害，为今后的研究工作提供实验数 据。 1测试方法 染物(MD)。从分析学的角度分为无机分析和有机分析。对于AMC痕量分析，在空气中采集污染物时抗背景 干扰尤为重要，因此需在洁净室中按照严格的洁净室规范完成采样准备工作。 1．1无机物采样 采用能在较大幅度内自动背压的无污染动力系统——SKCPCXR8专业空气采样泵，对采样时间精确控 制，采样泵与高度洁净的吸附管相连接。 将准备好的采样装置置于采样区域采样，使目标区域的空气以一定的流速／流量通过液体吸收剂，吸收空 子或所添加的专用吸收剂分子或离子发生键合、电离反应，从而生成相应的阴阳离子。 *收稿日期：2008—12～25I 修订日期：2009—05—10 作者简介：余颖(1969一)，女，硕士，从事洁净空调、分子过滤研究；image946@163．corn。 万方数据 强 激 光 与 粒 子 束 第2l卷 1．2有机物采样 大气中的大多数有机AMC属于挥发性有机化合物口]，不溶于水或其它无机液体，因此采样时使用