溅射镀膜试验.PPT

-溅射镀膜实验 薄膜物理与技术 主要的真空泵 油封机械泵 分子泵 分子泵 Balzers, 1992 Leybold M2000, 1999 “Clean, Lean Vacuum Machine” Turbo’s 气体随转子作圆周运动，获得离心力，与转子上页碰撞，按余弦定律散射，获得速度，后与定子下交碰撞，再获向右速度分量。 条件：（1）起始工作气压小，入大。 常压下，空气λ=0.06μm，1.3Pa，λ=4.4mm要求λ大于叶片间距。 （2）转子叶片线速度与气体分子速度相近分子量大、气体易抽，H2难抽H2最可几速率1557m/s，极限真空残余气体中。85%为H2。 Pump Operation Molecule V Moving Wall with Speed V Principle of the Turbomolecular Pump Vacuum Systems Turbo Pumped Sputtering System Plasma Ignition: Sweet Spot 巴邢曲线 3. DC sputtering simplest - basically what we have talked about so far ?????????????????????????????????????????????????????????????? Schematic of a planar magnetron target Principle of the magnetic effect Number densities of electrons in xy-plane Magnetic field traps electrons Increase the ion density Increase the electrons densities Higher sputtering rate 实验步骤 1．了解系统结构。真空获得系统，真空测试系统，气体控制系统，基片加热系统，溅射控制系统。 2．熟悉操作步骤。 3．基片装夹，开机械泵，通过旁通阀初抽真空，同时打开真空计；到达1000帕左右，打开主阀；达到5帕左右，开启分子泵；开启基片加热器，缓慢升高加热电压至温度到250oC 4．达到10－3帕后，停分子泵；分子泵停止后，调节气体控制气压。 5．改变气压，开启溅射电源，记录气压与起辉电压的变化。观察不同气体的辉光放电现象。 6．预溅射十分钟以后，调节溅射电流，稳定后打开基片挡板，进行薄膜的溅射沉积。  7．达到一定薄膜厚度之后，停止溅射，停止加热，关闭真空系统，系统充气，取样观测。 实验要求 得到真空度随时间的变化规律 得到放电电压与气压的变化规律 溅射沉积样品 通过电阻测量得到样品均匀性