2007年光学薄膜技术培训班培训总结.pdfVIP

2007 光学薄膜技术培训班培训总结 根 据北京雷生强式科技有限责任公司的安排，我于2007年10月8日至10月 12日在上海市嘉定区参加了由上海市激光学会、中国科学院上海光学精密机械 研究 所光学薄膜中心与迅技光电（上海）有限责任公司联合举办的2007光学薄 膜技术培训班，并参观了上海光机所光学薄膜中心，与参加培训的同行和有关人 士进行 了较为深入的交流，收到了较好的效果。 1、培训班整体情况 本次培训分为光学薄 膜膜系设计与分析技术、光学薄膜沉积技术和光学薄膜测 试技术三大部分。培训教师以具有上海光机所博士学历的在职研究人员为主，并 邀请了上海技术物理研究所 的周东平研究员和西南技术物理研究所的马孜研究 员讲授光学薄膜制作技术。10月9日下午，上海光机所的贺洪波研究员介绍了 国外的光学薄膜尤其是强激光薄膜 的研究进展和发展方向。10月11日，主办 单位安排了一系列专题讲座，浙江大学的顾培夫教授、同济大学的王占山教授、 中国科学院成都光电研究所的李斌成研 究员和航天科工集团的季一勤研究员等 专家分别对国内光学薄膜相关领域的研究进展进行了专题讲授。 参加这次培训的学员主要来自公司和实验室，总共有三十多人。来自企业的学员 是普遍具有3到5 年工作经验的青年技术人员，他们带着生产过程中的实际问题 前来，以解决问题为主要的学习目标。来自国内各研究机构的学员则以学术交流、 探讨为主。 与2006年5月在北京举办的光学薄膜培训班相比较，此次培训班具有实用、专 业、学术的优点，而少了商业气味。 2.相关培训主题 2.1 光学薄膜膜系设计与分析 该 专题的培训名称是《光学薄膜膜系设计与分析及Essential Macleod软件使 用》，历时两天，由上海光机所的齐红基博士主讲。其主要内容可分为以下三个 方面：光学薄膜设计理论、Essential Macleod光学薄膜膜系设计分析软件使用 说明和常规光学薄膜系统的设计。 Essential Macleod 是一套光学薄膜设计与分析软件包，它包含光学薄膜设计和 分析的所有要素： 1) 计算一个给定膜系的各种性能参数，包括常用的反射率、透过率、振幅 和位相等； 2) 优化已有膜系，提高其性能；对给定特性要求，导出其膜系设计； 3) 提取薄膜材料的光学常数； 4) 分析膜系特性，包括导纳图分析和电场分布分析等； 5) 估算膜层中随机误差对膜层光谱特性的影响； 6) 模拟光学镀膜。 2.2 光学薄膜制备技术 该 专题的名称是《镀膜工艺基础知识》，由中国科学院上海技术物理研究所的 周东平研究员讲授，周东平研究员同时还是上海欧菲尔光电技术有限责任公司总 经理。周 研究员从真空系统、制备技术、镀膜工艺、薄膜材料、膜厚监控、电 子枪和离子源的原理及其作用六个方面对光学薄膜制备技术进行了详细的讲授。 在 光学镀膜中常用的真空泵有机械泵、分子泵、罗茨泵、油扩散泵和冷凝泵。 分子泵和冷凝泵是半无油和无油系统，适合激光薄膜的镀制，分子泵的抽速慢， 冷凝泵抽 速快但在直径大于1100mm的真空系统中无法有效使用。油扩散泵如在 抽气口加装polycold冷阱可实现高抽速的无油真空系统。 实用的真空系统，为保证抽速，管道应尽可能短粗；前级泵和次级泵的配置要合 理；系统漏气小；真空室内材料的放气量要小；真空室要保持清洁。 除 了大功率激光系统的减反膜由溶液凝胶（sol-gel）技术制备之外，光学薄膜 真空镀膜技术一般采用物理气相沉积法（Physical vapor deposition）。PVD 包括热蒸发（Thermal Evaporation Deposition）、溅射（Plasma Sputtering Deposition）和离子镀（Ion Beam Sputtering Deposition）。 热 蒸发（Thermal Evaporation Deposition）分为电阻加热法（Resistive Heating）和电子枪蒸镀法（Electron Beam Gun Evaporation）。电阻加热时， 蒸发舟（Boat）要与材料接触良好，避免局部放热引起分解和喷溅。 镀膜的主要工艺因素有：基板处理（抛光、清洁、离子束预处理）、制备参数（基 板温度、沉积速率、真空度）、蒸汽入射角和老化处理。介质膜的老化处理包括 退火和激光预处理。 电子枪对膜层的成膜质量和光谱特性有重要影响， 2.3 镀膜工艺技术 该专题的题目是《光学薄膜基本制作技