- 1、本文档共4页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
耿氏管的合金金属及正面反面工艺的研究 - 红外与激光工程
第42 卷第5 期 红外与激光工程 2013 年5 月
Vol.42 No.5 Infrared and Laser Engineering May 2013
耿氏管的合金金属及正面反面工艺的研究
白 阳,贾 锐,刘新宇,武德起,金 智
( 中国科学院微电子研究所,北京 100029)
摘 要 介绍了一种实现低成本、高功率、高散热性能耿氏管的工艺制备流程,利用分子束外延生长
+ ,在
技术(MBE)在高掺杂的InP 衬底上生长n n 型的一致性掺杂外延结构 外延结构正面利用电子束蒸
发Ge/Au/ Ni/Au 作为器件阴极和电镀金制备作为散热层,背面通过化学湿法腐蚀形成台面(MESA) 。
在不同的温度下进行了退火对比实验,研究了阴极合金形成良好欧姆接触的温度条件。结果表明:退
火温度为450 益时形成的金属电极的接触效果最好。关于耿氏管的正面反面制备工艺简便易行, 利用
Ge/Au/ Ni/Au 制备金属电极得到了良好的欧姆接触性能,用氯基溶液进行了湿法腐蚀实验得到了较
好的垂直台面(MESA) 。该制备方法有望实现优良性能的耿氏器件。
; ; ; ;
关键词 耿氏管 太赫兹 磷化铟 退火 合金金属
中图分类号 O73 文献标志码 A 文章编号 1007-2276(2013)05-1265-04
Investigation of the metallization of Gunn diode and process
Bai Yang, J ia Rui, Liu Xinyu, Wu Deqi, J in Zhi
(The Institute of Microelectronic , Chinese Academy of Sciences , Beij ing 100029, China)
Abstract: A practical heat sink fabrication process for low cost , high power and millimeter wave
devices was presented . The uniformly doping epitaxial structure (n n +) was grown by molecular beam
epitaxy (MBE) on heavily doped n ++ InP substrate . Also a batch fabrication technique for mesas with
gold heat sink was proposed . A technology was developed to form ohmic contacts to indium phosphide
Gunn diodes , and the metallization of cathode and anode was fabricated by Ge/Au/ Ni/Au evaporation,
and was annealed at different temperature . Results show that the best ohmic contact is formed at 450 益 .
The complete fabrication procedure is described to realize the Gunn devices for low cost mill
文档评论(0)