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阵列光纤组件端面的化学机械抛光试验研究 - 表面技术.PDF

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阵列光纤组件端面的化学机械抛光试验研究 - 表面技术

摇 摇 摇 表面技术 第44卷摇 第4期 ·132 · SURFACE TECHNOLOGY 摇 2015年04月 試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試 摇 表面质量控制及检测 阵列光纤组件端面的化学机械抛光试验研究 邹文兵,刘德福,胡庆,陈广林 (中南大学 机电工程学院,长沙410083) 摘摇 要: 目的摇 设计合理的抛光工艺方案,获得平整的阵列光纤组件端面。 方法摇 采用单因素实验法研 究抛光工艺参数对阵列光纤表面粗糙度与光纤凸起量的影响,利用光学表面轮廓仪与扫描电镜进行分析 与观察。 结果摇 在抛光液磨粒质量分数为2%,抛光液流量为15 mL/ min,抛光压力为50 kPa,抛光盘转 速为30 r/ min 的条件下,可以获得平整的阵列光纤组件端面。 结论摇 应用化学机械抛光技术加工阵列光 纤组件,并设计合理工艺方案,可获得平整的阵列光纤组件端面,其表面粗糙度可低至42.6 nm,光纤凸 起值可低至0.14 滋m。 关键词:阵列光纤组件端面;化学机械抛光;表面粗糙度;光纤凸起量 中图分类号:TG175摇 摇 摇 文献标识码:A摇 摇 摇 文章编号:1001鄄3660(2015)04鄄0132鄄05 DOI:10.16490/ j.cnki.issn.1001鄄3660.2015.04.024 Experimental Research on Chemical Mechanical Polishing of End Face of Optical Fiber Array ZOU Wen鄄bing,LIUDe鄄fu,HUQing,CHEN Guang鄄lin (School of Mechanical and Electrical Engineering,Central South University,Changsha410083,China) ABSTRACT:ObjectiveToobtaintheflatendfaceofopticalfiberarraybydesigningproperpolishingprocessplan. MethodsThe effects of polishing processparametersonthesurfaceroughnessoftheopticalfiberarrayandfiberprojectionwerestudiedusingsin鄄 glefactor experiments,andthesurfacemorphologywasexaminedby ScanningElectronicMicroscopeandOpticalProfilometer. Re鄄 sults Flatendfaceofopticalfiberarraywasobtainedundertheconditionsofparticleconcentrationof2%,polishingslurryflowrate of 15 mL/ min,polishingpressureof50 kPa,androtation speedof30 r/ min. Conclusion Using chemical mechanical polishingto processopticalfiberarray,incombinationwithdesigningproperpolishingprocessparameters,aperfectend鄄faceofopticalfiberar鄄 ray with surface roughness of42.6 nm andfiber projection of0.14 滋m was achieved. KEY WORDS:e

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