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阵列光纤组件端面的化学机械抛光试验研究 - 表面技术
摇 摇 摇 表面技术 第44卷摇 第4期
·132 · SURFACE TECHNOLOGY 摇 2015年04月
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摇 表面质量控制及检测
阵列光纤组件端面的化学机械抛光试验研究
邹文兵,刘德福,胡庆,陈广林
(中南大学 机电工程学院,长沙410083)
摘摇 要: 目的摇 设计合理的抛光工艺方案,获得平整的阵列光纤组件端面。 方法摇 采用单因素实验法研
究抛光工艺参数对阵列光纤表面粗糙度与光纤凸起量的影响,利用光学表面轮廓仪与扫描电镜进行分析
与观察。 结果摇 在抛光液磨粒质量分数为2%,抛光液流量为15 mL/ min,抛光压力为50 kPa,抛光盘转
速为30 r/ min 的条件下,可以获得平整的阵列光纤组件端面。 结论摇 应用化学机械抛光技术加工阵列光
纤组件,并设计合理工艺方案,可获得平整的阵列光纤组件端面,其表面粗糙度可低至42.6 nm,光纤凸
起值可低至0.14 滋m。
关键词:阵列光纤组件端面;化学机械抛光;表面粗糙度;光纤凸起量
中图分类号:TG175摇 摇 摇 文献标识码:A摇 摇 摇 文章编号:1001鄄3660(2015)04鄄0132鄄05
DOI:10.16490/ j.cnki.issn.1001鄄3660.2015.04.024
Experimental Research on Chemical Mechanical Polishing of
End Face of Optical Fiber Array
ZOU Wen鄄bing,LIUDe鄄fu,HUQing,CHEN Guang鄄lin
(School of Mechanical and Electrical Engineering,Central South University,Changsha410083,China)
ABSTRACT:ObjectiveToobtaintheflatendfaceofopticalfiberarraybydesigningproperpolishingprocessplan. MethodsThe
effects of polishing processparametersonthesurfaceroughnessoftheopticalfiberarrayandfiberprojectionwerestudiedusingsin鄄
glefactor experiments,andthesurfacemorphologywasexaminedby ScanningElectronicMicroscopeandOpticalProfilometer. Re鄄
sults Flatendfaceofopticalfiberarraywasobtainedundertheconditionsofparticleconcentrationof2%,polishingslurryflowrate
of 15 mL/ min,polishingpressureof50 kPa,androtation speedof30 r/ min. Conclusion Using chemical mechanical polishingto
processopticalfiberarray,incombinationwithdesigningproperpolishingprocessparameters,aperfectend鄄faceofopticalfiberar鄄
ray with surface roughness of42.6 nm andfiber projection of0.14 滋m was achieved.
KEY WORDS:e
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