磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积Ti-Si-N 薄膜摩擦磨损 - 摩擦学学报.PDF

第 24 卷　第 5 期 摩 擦 学 学 报 24, 　 5 V o l N o 2004 年 9 月 TR IBOL O GY Sep , 2004 磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积 - - 薄膜 T i Si N 摩擦磨损性能对比研究 1 1 1 2 马青松 , 马胜利 , 徐可为 , 徐　洮 ( 1. 西安交通大学 金属材料强度国家重点实验室, 陕西 西安　7 10049; 2. 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室, 甘肃 兰州　730000) 摘要: 分别利用磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积( ) 技术制备了 薄膜, 测定了2 种 薄膜的显 PCVD T i Si N T i Si N ( 微硬度, 并采用球盘式高温摩擦磨损试验机对比考察了其高温摩擦磨损性能. 结果表明, 当薄膜中 Si 含量 原子分 ) 数 约为 10% 时, 2 种薄膜的显微硬度达到最大值; 2 种 薄膜的耐磨性能同其硬度之间不存在对应关系, 其中 T i Si N 采用 方法制备的 薄膜的高温抗磨性能较优; 2 种薄膜在高温下的摩擦系数均有所降低, 这归因于高温 PCVD T i Si N 下氧化膜的润滑作用. 关键词: 磁控溅射; 脉冲直流化学气相沉积( ) ; 薄膜; 摩擦磨损性能 PCVD T i Si N 中图分类号: T G 174. 44 文献标识码: A 文章编号: (2004) 0504 1505 　　 薄膜以其超硬、高强和 良好的抗氧化性 薄膜, 该设备的原理和特点详见文献[ 9 ]. 薄 T i Si N