干膜外层重要文件.pptVIP

外層線路制程學習報告 一、刷磨 二、壓膜 三、曝光 四、顯影 五、檢驗 六、退洗 一、刷磨 一、目的 先用化學方法(H2SO4)去除表面氧化物及油脂，然後通過刷輪進一步清潔板面，同時將板面粗化。 二、流程 放板?蝕洗?循環水洗?刷磨?中壓復合水洗?風干?下板 三、原理 蝕洗﹕CUO+H2SO4=CUSO4+H2O H2SO4+油脂=水解反應 刷磨﹕灰色尼龍刷以物理方法對板面進行刷磨 一、刷磨 四、討論 1.刷磨輪應有左右擺動裝置，以確保孔四周都均勻磨刷 避免孔周變形。 2.銅表面粗糙度對干膜密著性影響 a.太平滑，造成密著性差 b.太粗糙，造成電鍍時滲透、蝕刻時側蝕 3.刷磨后，乾燥系統也相當重要。若乾燥不好，表面容 易再氧化或有白點存在而影響干膜的密著性。 二、壓膜 一、目的 通過熱壓滾輪將軟化的半流體狀干膜壓合在板面 二、流程 放板?板面清潔?預熱?壓膜?翻板?收板 三、原理 壓膜是由加熱來降低光阻膜的粘度，并由壓著滾輪的瞬間壓力將膜體擠入銅面，并靜置以利于干膜的附著。 四、討論 A.壓力 二、壓膜 實際施于干膜的壓力視壓痕的長度和寬度而定。壓痕 的形狀又受所施總力量、滾輪直徑、厚度、滾輪 表 面硬度等因素的影響。 B.溫度 實際溫度與下列因素有關﹕ 1.壓膜速度(熱源與干膜接觸時間) 2.壓膜溫度(熱源溫度) 3.材質與厚度(介于熱源和光阻/銅箔介面間的材料導 熱系數) 4.預熱溫度(基板的吸熱量和溫度) 三、曝光 一、目的 ＵＶ光(360nm）透過底片照射到干膜上，在干膜上產生 曝光(非線路)與未曝光(線路)部分 二、流程 放板?板面清潔?曝光(上流、翻板、下流) ?暫存?收 板 三、原理 1.曝光反應原理 紫外照射(吸收能量)?起始劑裂解?出現自由基(自由基轉移) ?單體吸收自由基(聚合或交聯) ?形成聚合物 三、曝光 2.干膜的化學組成 粘結劑﹕使光阻劑保持應有的膜體而不致散形。 單體﹕感光致程重要組成元素。 感光起始劑﹕影響感光速率的重要成分。 塑化劑及附著力促進劑 染料﹕方便目視檢查。 四、討論 1.平行光﹕平行半角(CHA?2?)﹕曝光機的平行度 斜射角(DA?1.5?)﹕曝光造成的側向偏移 2.曝光能量(設定值)﹕光強度(隨時間而衰減)?時間 3.吸真空度﹕底片與干膜的貼緊程度 4.底片的準確度﹕主要在于無塵室的溫、濕度之維護 四、顯影 一、目的 通過顯影液與曝光及未曝光之干膜反應，于板面上制作出所需的圖形。 二、流程 放板?顯影-1 ?顯影-2 ?水洗?風干?收板 三、原理 用弱堿性溶液(1%的Na2CO3)噴淋到板子上，與未曝光的干膜(弱酸 性)發生皂化反應生成鹽而讓干膜膨松易于沖洗掉，使干膜下的 銅露出來形成線路。而曝光部分則因為結構堅實，不易為弱堿性水溶液侵蝕，因此得以存留，由此達到顯影的目的。 四、顯影 四、討論 1.顯影點的確定﹕ 直接影響顯影效果，可通過自動添加系統改善。 2.顯影機噴液系統的過濾﹕ 過濾不良易導致線路缺口、斷路。 3.乾燥﹕干膜不耐高熱，因此溫度不易過高。 4.顯影常見缺點為﹕ 顯影過渡，顯影不潔，干膜屑、干膜脫落。 這些缺點最終導致斷路、短路、缺口、滲透。 * * * * * * *