薄膜材料和薄膜技术教学大纲.docVIP

《薄膜材料与薄膜技术》课程教学大纲一、《材料制备技术》课程说明（一）课程代码二）课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology（三）开课对象：物理系材料物理专业（四）课程性质：本课程是材料物理专业的一门专业选修课。（五）教学目的本课程主要介绍薄膜材料的制备及特性。通过学习既可以掌握一些薄膜物理的基本知识，同时也能了解该领域内当前的一些前沿研究进展，开阔眼界，这些都有利于学生将来更好的投入科研工作中去。（六）教学内容：本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。（七）学时数、学分数及学时数具体分配学时数：36学分数：2学时数具体分配：教学内容讲授实验/实践合计第一章真空技术基础44第二章真空蒸发镀膜法44第三章溅射镀膜44第四章离子镀膜22第五章化学气相沉积44第六章溶液镀膜法44第七章薄膜的形成44第八章薄膜的结构与缺陷55第九章薄膜的性质55合 计 =SUM(ABOVE) 36 =SUM(ABOVE) 36（八）教学方式：课堂教学（九）考核方式和成绩记载说明：考核方式为考试。严格考核学生出勤情况，达到学籍管理规定的旷课量取消考试资格，综合成绩根据出勤情况、平时成绩和期末成绩评定，出勤情况占20％，平时成绩占20％，期末成绩占60％。二、讲授大纲与各章的基本要求第一章 真空技术基础教学要点：通过本章的教学使学生初步了解真空的基本知识，掌握获取一定程度的真空状态的方法及测量手段。教学时数：4教学内容：第一节：真空的基本知识第二节：稀薄气体的基本性质第三节：真空的获得第四节：真空的测量考核要求：1．真空的基本知识（识记）2．稀薄气体的基本性质（领会）3．真空的获得（领会）4．真空的测量（识记）第二章 真空蒸发镀膜法教学要点：了解真空蒸发镀膜的基本原理，了解蒸发特性以及相应的膜厚分布特点，了解膜厚和沉积速率的测量与监控方法。 教学时数：4 教学内容： 第一节：真空蒸发原理 第二节：蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 第三节：蒸发源的类型 第四节：合金及化合物的蒸发 第五节：膜厚和沉积速率的测量与监控考核要求： 1．真空蒸发基本原理（领会） 2．蒸发源的特性及膜厚分布（识记） 3．蒸发源的类型（识记） 4．膜厚和沉积速率的测量与监控（领会） 5．合金及化合物的蒸发（领会） 第三章 溅射镀膜 教学要点： 了解溅射法制备纳米薄膜的基本原理，掌握溅射法制备的特点，熟悉溅射镀膜的几种基本类型，了解溅射镀膜的厚度分布特点，明确如何控制厚度均匀性指标。 教学时数：4 教学内容： 第一节：溅射镀膜的特点第二节：溅射的基本原理第三节：溅射镀膜类型第四节：溅射镀膜的厚度均匀性 考核要求： 1．溅射镀膜的特点（识记） 2．溅射的基本原理（领会） 3．溅射镀膜类型（识记） 4．溅射镀膜的厚度均匀性（领会） 第四章 离子镀膜 教学要点： 介绍离子镀的原理和基本特点，了解离子镀的几种基本类型。 教学时数：2 教学内容：第一节：离子镀原理第二节：离子镀的特点第三节：离子轰击的作用第四节：离子镀的类型 考核要求： 1．离子镀原理（领会） 2．离子镀的特点和离子轰击的作用（识记） 3．离子镀的类型（识记） 第五章 化学气相沉积 教学要点： 系统介绍化学气相沉积法制备纳米薄膜的基本原理和基本特点，介绍几种常见的化学气相沉积方法。 教学时数：4 教学内容： 第一节：化学气相沉积的基本原理 第二节：化学气相沉积的特点 第三节：CVD方法简介 第四节：低压化学气相沉积 第五节：等离子体化学气相沉积 第六节：其他化学气相沉积法 考核要求： 1．化学气相沉积的基本原理（领会） 2．化学气相沉积的特点（识记） 3．几种常见的化学气相沉积方法（领会） 第六章 溶液镀膜法 教学要点： 介绍溶液镀膜法的基本原理和特点，介绍几种溶液镀膜的方法。 教学时数：4 教学内容： 第一节：化学反应沉积 第二节：阳极氧化法 第三节：电镀法 第四节：LB膜的制备 考核要求： 1．化学反应沉积（识记） 2．阳极氧化法（领会） 3．电镀法（领会） 4．LB膜的制备（识记） 第七章 薄膜的形成 教学要点： 介绍薄膜的形成过程以及相应的生长模式，介绍两种薄膜形成过程的计算机模拟方法。 教学时数：4 教学内容： 第一节：凝结过程 第二节：核形成与生长 第三节：薄膜形成过程与生长模式第四节：溅射薄膜的形成过程第五节：薄膜的外延生长第六节：薄膜形成过程的计算机模拟 考核要求： 1．薄膜形成过程与生长模式（领会） 2