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原子层沉积前驱体材料的研究进展-表面技术.PDF
第 卷 第 期 年 月 表面技术
暋 39 暋暋 4 暋暋2010 8
暋暋暋Vol.39暋No.4暋Au.2010 SURFACETECHNOLOGY
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崑 综述 专论
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原子层沉积前驱体材料的研究进展
,
12 1 1
, ,
袁军平 李卫 郭文显
( , ; , )
1.暨南大学 理工学院 广州 510632 2.广州番禺职业技术学院 广州 511483
[ ] ,
摘 要 介绍了原子层沉积技术的基本原理及其特点 从无机类材料和有机金属类材料两个方面综述了
暋暋 暋 暋
, 、 , 、 、 、
前驱体材料的研究进展状况 介绍了单一元素 卤化物等无机类前驱体材料的特点 以及烷基 环戊二烯基 醇盐
、 、 。 ,
毬二酮 烷基胺 硅胺基和酰胺等有机金属类前驱体材料的特点 结合原子层沉积过程的工艺特点和膜层要求
, 、 、 、 、
强调了在选择前驱体材料时 需要综合考虑材料的蒸汽压 反应性 化学稳定性 反应产物的活性 材料的安全性
及来源等方面的因素。
[ ] ; ;
关键词 原子层沉积 前驱体 材料
暋
[中图分类号] [文献标识码] [文章编号] ( )
174.2 暋 暋 暋 A 暋 暋 暋 1001灢3660201004灢0077灢06
TheResearchProressofPrecursorsforAtomicLaerDeosition
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1.ColleeofScienceTechnolo JinanUniversit Guanzhou510632 China
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2.G
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